中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司杜杳雋獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司申請的專利光學鄰近修正方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116165837B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111416385.6，技術領域涉及：G03F1/36；該發明授權光學鄰近修正方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質是由杜杳雋;丁麗華設計研發完成，并于2021-11-25向國家知識產權局提交的專利申請。
本光學鄰近修正方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質在說明書摘要公布了：一種光學鄰近修正方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質，方法包括：提供初始版圖層，包括多個沿第一方向排布的圖形行，每個圖形行均包括沿第二方向規律排布的多個圖形，第一方向垂直于第二方向；將初始版圖層拆分為第一版圖層和第二版圖層，將間隔相鄰的圖形行置于第一版圖層中，將剩余圖形行置于第二版圖層中；將第一版圖層拆分為第三版圖層和第四版圖層，將第一版圖層的每個圖形行中，間隔相鄰的圖形置于第三版圖層中，剩余圖形置于第四版圖層中；將第二版圖層拆分為第五版圖層和第六版圖層，將第二版圖層的每個圖形行中，間隔相鄰的圖形置于第五版圖層中，剩余圖形置于第六版圖層中。本發明提高光學鄰近修正效果的同時，節約工藝成本。
本發明授權光學鄰近修正方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質在權利要求書中公布了：1.一種光學鄰近修正方法，其特征在于，包括： 提供初始版圖層，所述初始版圖層包括多個沿第一方向排布的圖形行，每個所述圖形行均包括沿第二方向規律排布的多個圖形，所述第一方向垂直于第二方向； 將所述初始版圖層拆分為第一版圖層和第二版圖層，用于將間隔相鄰的所述圖形行置于第一版圖層中，將剩余所述圖形行置于第二版圖層中； 將所述第一版圖層拆分為第三版圖層和第四版圖層，用于將第一版圖層的每個所述圖形行中，間隔相鄰的所述圖形置于第三版圖層中，剩余所述圖形置于第四版圖層中； 將所述第二版圖層拆分為第五版圖層和第六版圖層，用于將第二版圖層的每個所述圖形行中，間隔相鄰的所述圖形置于第五版圖層中，剩余所述圖形置于第六版圖層中； 其中，所述第三版圖層、第四版圖層、第五版圖層和第六版圖層用于單獨被執行光學鄰近修正。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區中國（上海）自由貿易試驗區張江路18號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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