上海華力集成電路制造有限公司胡丹丹獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰,真高效! 查專利查商標用IPTOP,全免費!專利年費監控用IP管家,真方便!
龍圖騰網獲悉上海華力集成電路制造有限公司申請的專利一種掩模制備方法和掩模結構獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114038740B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202111268350.2,技術領域涉及:H01L21/033;該發明授權一種掩模制備方法和掩模結構是由胡丹丹;張瑜;高松設計研發完成,并于2021-10-29向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種掩模制備方法和掩模結構在說明書摘要公布了:本發明提供一種新型掩模結構和制備方法,提供石英玻璃基板;利用至少兩束激光從不同角度射入玻璃基板內部相交形成激光干涉點,使得激光干涉點處結晶得到具有目標透光率的設計形狀;冷卻得到位于石英玻璃基板內部,且具有目標透光率和具有設計形狀的結晶體,可得到設于石英玻璃基板內部的具有目標透光率和設計形狀的結晶體,新型掩模制備流程簡單,清洗和維護方便,設計形狀完全密封,使用過程中不易產生形變,導致曝光圖形透過保護膜后成像不會發生變化,設計形狀是玻璃轉變成晶體,熱膨脹系數更低,有效減少掩模版熱效應。
本發明授權一種掩模制備方法和掩模結構在權利要求書中公布了:1.一種掩模制備方法,其特征在于,所述方法至少包括: 步驟一、提供石英玻璃基板; 步驟二、利用至少兩束激光從不同角度射入石英玻璃基板,在所述石英玻璃基板內部相交形成激光干涉點,使得所述激光干涉點處重新結晶,從而得到具有目標透光率的設計形狀,所述設計形狀包括厚度和線寬; 步驟三、冷卻得到位于所述石英玻璃基板內部,且具有所述目標透光率和具有所述設計形狀的結晶體。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人上海華力集成電路制造有限公司,其通訊地址為:201203 上海市浦東新區良騰路6號;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息,力求客觀、公正,但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解,僅供參考使用,不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。