應用材料公司羅德尼·順隆·利馬獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！
龍圖騰網獲悉應用材料公司申請的專利用于薄膜晶體管的富氮氮化硅膜獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114303239B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080061205.4，技術領域涉及：H01L23/29；該發明授權用于薄膜晶體管的富氮氮化硅膜是由羅德尼·順隆·利馬;金正倍;王家銳;崔羿;任東吉;崔壽永設計研發完成，并于2020-06-19向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于薄膜晶體管的富氮氮化硅膜在說明書摘要公布了：本公開內容的多個實施方式一般涉及富氮氮化硅和多個用以沉積富氮氮化硅的方法，和包含富氮氮化硅的多個晶體管和其他裝置。在一個或多個實施方式中，一種鈍化膜堆疊物包含氧化硅層，氧化硅層設置于工件上；和富氮氮化硅層，富氮氮化硅層設置于氧化硅層上。富氮氮化硅層具有約20原子百分比at％至約35at％的硅濃度、約40at％至約75at％的氮濃度和約10at％至約35at％的氫濃度。在一個或多個例子中，鈍化膜堆疊物包含氧化硅層、富氮氮化硅層和第三層，第三層包含任何類型的氮化硅，例如是富氮氮化硅和或富氫氮化硅。
本發明授權用于薄膜晶體管的富氮氮化硅膜在權利要求書中公布了：1.一種鈍化膜堆疊物，包括： 氧化硅層，設置于工件上；和 富氮氮化硅層，設置于所述氧化硅層上； 其中所述富氮氮化硅層具有20原子百分比at%至35at%的硅濃度、40at%至75at%的氮濃度和10at%至35at%的氫濃度。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人應用材料公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
免責聲明
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
開放平臺
擔保交易
惠及多方
會員特惠
專屬平臺
適合多方
數據共享
功能齊全
皖公網安備 34010402703815號