杭州電子科技大學石春景獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉杭州電子科技大學申請的專利一種新型非直微細孔道內表面光磁耦合拋光裝置及方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120422084B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510947610.0,技術領域涉及:B24B1/00;該發明授權一種新型非直微細孔道內表面光磁耦合拋光裝置及方法是由石春景;吳鵬程;楊錦垚;劉寒雨;王芝徽;孟凡寧;楊穎設計研發完成,并于2025-07-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種新型非直微細孔道內表面光磁耦合拋光裝置及方法在說明書摘要公布了:本發明涉及一種新型非直微細孔道內表面光磁耦合拋光裝置,涉及超精密加工技術領域,包括主體框架和安裝在主體框架內部的2個磁場發生器、儲液池、拋光液加速單元,待拋光工件安裝在磁場發生器之間的安裝架上,磁場發生器還連接有滾動裝置,拋光液加速單元的一端與工件相連,另一端與儲液池相連,儲液池的輸出端與拋光液加速單元之間還設置有光激發裝置,待拋光工件的另一端與儲液池相連,儲液池中存儲的拋光液包括磨料和磁流體,加工過程中,通過滾動裝置的動作,調整磁場發生器的磁場。本發明通過電磁驅動機制,結合光化學的強化效應,使被拋光工件內孔道Ra3μm,顯著降低生產成本,滿足環形微細管路內表面拋光的高標準需求。
本發明授權一種新型非直微細孔道內表面光磁耦合拋光裝置及方法在權利要求書中公布了:1.一種新型非直微細孔道內表面光磁耦合拋光裝置,其特征在于,包括主體框架和安裝在主體框架內部的第一磁場發生器、第二磁場發生器、儲液池、拋光液加速單元,待拋光工件安裝在第一磁場發生器、第二磁場發生器之間的安裝架上,其中的第一磁場發生器還連接有滾動裝置,所述拋光液加速單元的一端與工件相連,另一端與儲液池相連,所述儲液池的輸出端與拋光液加速單元之間還設置有光激發裝置,待拋光工件的另一端與儲液池相連,所述儲液池中存儲的拋光液包括磨料和磁流體,加工過程中,通過滾動裝置的動作,調整第一磁場發生器的磁場; 所述第一磁場發生器用于提供一個可控的磁場向心力,來控制拋光液做可控的圓周運動;第二磁場發生器用于對工件拋光區域提供一個可控的橫向磁場。
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