無錫市宇壽醫療器械有限公司;宇壽影像科技(無錫)有限公司王長剛獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉無錫市宇壽醫療器械有限公司;宇壽影像科技(無錫)有限公司申請的專利X射線焦點測量分析方法、裝置及系統獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120445112B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510948453.5,技術領域涉及:G01B15/00;該發明授權X射線焦點測量分析方法、裝置及系統是由王長剛;請求不公布姓名;繆李平設計研發完成,并于2025-07-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本X射線焦點測量分析方法、裝置及系統在說明書摘要公布了:本發明涉及X射線焦點測量技術領域,具體公開了一種X射線焦點測量分析方法、裝置及系統,包括:獲取光子探測器形成的焦點圖像,其中所述光子探測器能夠捕獲X射線球管經針孔光闌射出的X射線并形成焦點圖像;對所述焦點圖像進行圖像預處理,獲得預處理焦點圖像;確定所述預處理焦點圖像中的圖像實際焦點位置;根據所述圖像實際焦點位置以及所述光子探測器與X射線球管之間所形成的成像原理確定靶盤焦點偏移量;根據多張焦點圖像所形成的多個靶盤焦點偏移量進行焦點穩定性分析,獲得焦點抖動量化分析結果。本發明提供的X射線焦點測量分析方法能夠在測量X射線球管照射在靶盤上的焦點大小的同時實現對焦點位置的偏移的檢測。
本發明授權X射線焦點測量分析方法、裝置及系統在權利要求書中公布了:1.一種X射線焦點測量分析方法,其特征在于,包括: 獲取光子探測器形成的焦點圖像,其中所述光子探測器能夠捕獲X射線球管經針孔光闌射出的X射線并形成焦點圖像; 對所述焦點圖像進行圖像預處理,獲得預處理焦點圖像; 確定所述預處理焦點圖像中的圖像實際焦點位置; 根據所述圖像實際焦點位置以及所述光子探測器與X射線球管之間所形成的成像原理確定靶盤焦點偏移量; 根據多張焦點圖像所形成的多個靶盤焦點偏移量進行焦點穩定性分析,獲得焦點抖動量化分析結果; 根據所述圖像實際焦點位置以及所述光子探測器與X射線球管之間所形成的成像原理確定靶盤焦點偏移量,包括: 根據所述圖像實際焦點位置與所述光子探測器的圖像中心點位置確定圖像實際焦點偏移量; 根據所述光子探測器與X射線球管之間的距離確定成像模型的放大比例; 根據所述圖像實際焦點偏移量以及所述成像模型的放大比例確定靶盤焦點偏移量; 根據所述光子探測器與X射線球管之間的距離確定成像模型的放大比例,包括: 根據所述圖像實際焦點位置以及所述圖像實際焦點偏移量確定光子探測器上相鄰兩個成像的焦點之間的距離; 根據每相鄰兩個針孔光闌之間的距離、針孔光闌到光子探測器之間的距離以及光子探測器上相鄰兩個成像的焦點之間的距離確定成像模型的放大比例; 根據所述圖像實際焦點偏移量以及所述成像模型的放大比例確定靶盤焦點偏移量,包括: 根據靶盤的中心點與針孔光闌之間的距離以及所述針孔光闌到所述光子探測器的焦點之間的距離的比值等于所述靶盤焦點偏移量與所述圖像實際焦點偏移量之間的比值; 將所述靶盤的中心點與針孔光闌之間的距離以及所述針孔光闌到所述光子探測器的焦點之間的距離的比值確定為所述成像模型的放大比例; 根據所述成像模型的放大比例確定所述靶盤焦點偏移量; 根據多張焦點圖像所形成的多個靶盤焦點偏移量進行焦點穩定性分析,獲得焦點抖動量化分析結果,包括: 將所述多張焦點圖像所形成的多個靶盤焦點偏移量進行信號建模獲得靶盤焦點偏移量的時域表達形式; 對所述靶盤焦點偏移量的時域表達形式進行快速傅里葉變換后提取靶盤焦點偏移量中的周期性抖動頻率成分; 對所述靶盤焦點偏移量中的周期性抖動頻率成分進行主抖動頻率以及焦點抖動頻率檢測,以獲得焦點抖動量化分析結果。
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