買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標(biāo)用IPTOP,全免費(fèi)！專利年費(fèi)監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)獲悉天津工業(yè)大學(xué)申請的專利多模式工業(yè)過程監(jiān)控方法、裝置、設(shè)備及存儲介質(zhì)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN120450237B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-05發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202510946851.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06Q10/063；該發(fā)明授權(quán)多模式工業(yè)過程監(jiān)控方法、裝置、設(shè)備及存儲介質(zhì)是由付元建;夏付兵;許雪;呂東設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-07-10向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本多模式工業(yè)過程監(jiān)控方法、裝置、設(shè)備及存儲介質(zhì)在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種多模式工業(yè)過程監(jiān)控方法、裝置、設(shè)備及存儲介質(zhì)，包括：采集運(yùn)行數(shù)據(jù)進(jìn)行預(yù)處理并通過聚類進(jìn)行模式劃分，利用模式間和模式內(nèi)的親合度矩陣分別計(jì)算模式間和模式內(nèi)的散度矩陣，并構(gòu)建最終目標(biāo)函數(shù)，分別對其中的投影矩陣、共享矩陣和誤差矩陣進(jìn)行迭代更新得到最終投影矩陣并計(jì)算各模式的統(tǒng)計(jì)量與控制限，在新樣本到來時計(jì)算其統(tǒng)計(jì)量并與對應(yīng)的控制限比較，發(fā)出故障信息。通過投影矩陣將高維數(shù)據(jù)映射至低維空間保留原有特征，通過特征中包含的各模式內(nèi)部的數(shù)據(jù)的局部結(jié)構(gòu)和自身的特性、不同模式之間的關(guān)系和共同信息對工業(yè)過程進(jìn)行分析，能充分考慮各模式自身的特性和模式間的關(guān)聯(lián)對工業(yè)過程進(jìn)行監(jiān)控，提升了故障監(jiān)控的準(zhǔn)確率。

本發(fā)明授權(quán)多模式工業(yè)過程監(jiān)控方法、裝置、設(shè)備及存儲介質(zhì)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種多模式工業(yè)過程監(jiān)控方法，其特征在于，包括： S101，采集多模式工業(yè)過程的運(yùn)行數(shù)據(jù)，并對運(yùn)行數(shù)據(jù)進(jìn)行預(yù)處理，得到預(yù)處理運(yùn)行數(shù)據(jù)； S102，對預(yù)處理運(yùn)行數(shù)據(jù)進(jìn)行聚類分析，根據(jù)聚類結(jié)果進(jìn)行模式劃分，得到各模式的運(yùn)行數(shù)據(jù)； S103，利用各模式的運(yùn)行數(shù)據(jù)分別構(gòu)建模式間親合度矩陣和模式內(nèi)親合度矩陣，并根據(jù)模式間親合度矩陣和模式內(nèi)親合度矩陣計(jì)算模式間散度矩陣和模式內(nèi)散度矩陣； S104，根據(jù)模式間散度矩陣和模式內(nèi)散度矩陣構(gòu)建最終目標(biāo)函數(shù)，最終目標(biāo)函數(shù)體現(xiàn)各模式工業(yè)過程的模式內(nèi)信息、模式間信息和共同信息，并利用最終目標(biāo)函數(shù)提取投影矩陣、共享矩陣和誤差矩陣； S105，根據(jù)最終目標(biāo)函數(shù)，分別對投影矩陣、共享矩陣和誤差矩陣進(jìn)行迭代更新，得到最終投影矩陣； S106，利用最終投影矩陣計(jì)算各模式的統(tǒng)計(jì)量與控制限，在新樣本到來時，通過計(jì)算新樣本的統(tǒng)計(jì)量并與其對應(yīng)模式控制限進(jìn)行比較，當(dāng)統(tǒng)計(jì)量超過控制限時發(fā)出工業(yè)過程故障信息； 所述方法還包括，利用模式間散度矩陣和模式內(nèi)散度矩陣構(gòu)建最終目標(biāo)函數(shù)： 其中，表示投影矩陣，即高維數(shù)據(jù)到低維數(shù)據(jù)的映射并保留數(shù)據(jù)特征，且，為實(shí)數(shù)空間，m表示變量數(shù)量，d表示降維后的數(shù)據(jù)維度，表示將投影矩陣進(jìn)行轉(zhuǎn)置，表示平衡參數(shù)，表示矩陣的跡，表示模式內(nèi)散度矩陣，表示模式間散度矩陣，表示求在滿足目標(biāo)函數(shù)最小時的，表示共享矩陣，且，n表示單個模式的樣本數(shù)量，表示共享矩陣C的F范數(shù)的平方，和為懲罰參數(shù)，表示第i個模式的誤差矩陣，且，表示第i個模式誤差矩陣的2,1范數(shù)，用于使誤差矩陣稀疏，表示第i個模式的樣本數(shù)據(jù)。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人天津工業(yè)大學(xué)，其通訊地址為：300387 天津市西青區(qū)賓水西道399號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。