東京毅力科創株式會社三浦拓也獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東京毅力科創株式會社申請的專利液處理裝置、液處理方法和計算機可讀取的存儲介質獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113031407B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202011464044.1，技術領域涉及：G03F7/30；該發明授權液處理裝置、液處理方法和計算機可讀取的存儲介質是由三浦拓也;高橋彰吾;田中公一朗設計研發完成，并于2020-12-14向國家知識產權局提交的專利申請。
本液處理裝置、液處理方法和計算機可讀取的存儲介質在說明書摘要公布了：本發明提供一種液處理裝置、液處理方法和計算機可讀取的存儲介質。液處理裝置的一例包括：構成為能夠保持基片的基片保持部；構成為能夠向基片的表面供給處理液的處理液供給部；構成為能夠向基片的表面供給氣體的氣體供給部；控制部。氣體供給部包括擴散噴嘴，該擴散噴嘴形成有相對于基片的表面以各自不同的角度延伸的多個噴出口。控制部在基片的表面被供給有處理液的狀態下，執行控制氣體供給部的處理，以使得從擴散噴嘴對基片的表面中的至少包含中央部的區域噴射氣體。根據本發明，能夠更均勻地控制基片的面內溫度分布。
本發明授權液處理裝置、液處理方法和計算機可讀取的存儲介質在權利要求書中公布了：1.一種液處理裝置，其特征在于，包括： 構成為能夠保持基片的基片保持部； 構成為能夠向所述基片的表面供給處理液的處理液供給部； 構成為能夠向所述基片的表面供給氣體的氣體供給部；和 控制部， 所述氣體供給部包括擴散噴嘴，所述擴散噴嘴形成有相對于所述基片的表面以各自不同的角度延伸的多個噴出口， 所述控制部在所述基片的表面被供給有所述處理液的狀態下，執行控制所述氣體供給部的處理，以使得在從鉛垂方向觀察時所述擴散噴嘴位于從所述基片的旋轉中心偏心的狀態下，從所述擴散噴嘴對所述基片的表面中的至少包含中央部的區域持續地噴射所述氣體。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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