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龍圖騰網獲悉中國科學技術大學申請的專利一種基于渦旋光干涉的微小折射率變化率測量方法及系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116148219B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-08發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310118345.6，技術領域涉及：G01N21/45；該發明授權一種基于渦旋光干涉的微小折射率變化率測量方法及系統是由吳水梅;王安廷;馬鳳華;石寶奇設計研發完成，并于2023-02-15向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種基于渦旋光干涉的微小折射率變化率測量方法及系統在說明書摘要公布了：本發明公開了一種基于渦旋光干涉的微小折射率變化率測量方法及系統。本發明利用拓撲荷符號相反的兩束渦旋光分別作為參考光束和測量光束，測量光束穿過折射率緩慢變化的待測樣品后與參考光匯成一束，形成旋轉的花瓣狀干涉圖案，該花瓣狀圖案的旋轉角速度與待測樣品的折射率變化率成正比。用CCD以一定的采樣頻率采集記錄干涉圖案，利用歸一化互相關方法處理CCD采集的圖像，并引入時頻分析方法，可以得到干涉圖案的旋轉速度，進而得到待測樣品的折射率變化率。本發明避免了測量干涉圖樣旋轉角所引入的誤差，能夠測量非勻速變化的折射率的變化率，并且能夠辨別折射率變化的方向。

本發明授權一種基于渦旋光干涉的微小折射率變化率測量方法及系統在權利要求書中公布了：1.一種基于渦旋光干涉的微小折射率變化率測量方法，其特征在于，所述方法包括如下步驟： 步驟1：利用螺旋相位片將激光光源發射的基模高斯光束轉化為渦旋光束，分束鏡將所述渦旋光束分為兩束，其中一束作為測量光束，另一束作為參考光束；所述測量光束穿過待測樣品，待測樣品的折射率緩慢變化； 步驟2：利用反射鏡和分束鏡，使步驟1所述參考光束和測量光束在達到CCD前所經歷的反射次數的奇偶性相反，從而使所述參考光束和測量光束的拓撲荷符號相反； 步驟3：將步驟2中的拓撲荷符號相反的參考光束和測量光束匯成一路，發生同軸干涉，形成旋轉的花瓣狀干涉圖案； 步驟4：CCD以設定的采樣頻率采集所述花瓣狀干涉圖案； 步驟5：以t=0時刻采集的干涉圖案作為參考圖像，采用歸一化互相關方法計算CCD采集的每一張圖像與參考圖像之間的相關系數，得到相關系數隨時間變化的關系曲線； 步驟6：采用時頻分析方法計算所述相關系數時間變化曲線的時間-頻率分布譜，得到不同時刻相關系數的變化頻率； 步驟7：根據不同時刻相關系數的變化頻率與步驟3所述干涉圖案的旋轉角速度之間的關系，計算得到干涉圖案的旋轉角速度； 步驟8：根據所述干涉圖案的旋轉角速度與待測樣品的折射率變化率之間的關系，計算得到折射率變化率； 步驟9：根據測量過程中干涉圖案的旋轉方向，判斷待測樣品折射率變化的方向。

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