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龍圖騰網(wǎng)獲悉全芯智造技術(shù)有限公司申請(qǐng)的專利基于偏移誤差的模型選擇方法及裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)、終端設(shè)備獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115659896B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-08發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202211145551.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06F30/392；該發(fā)明授權(quán)基于偏移誤差的模型選擇方法及裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)、終端設(shè)備是由請(qǐng)求不公布姓名設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-09-20向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本基于偏移誤差的模型選擇方法及裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)、終端設(shè)備在說(shuō)明書摘要公布了：一種基于偏移誤差的模型選擇方法及裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)、終端設(shè)備，該方法包括：獲取待處理版圖；采用目標(biāo)模型對(duì)待處理版圖進(jìn)行多次調(diào)整，以得到第一數(shù)量個(gè)調(diào)整后的版圖，其中，目標(biāo)模型用于根據(jù)光學(xué)臨近效應(yīng)對(duì)待處理版圖進(jìn)行尺寸調(diào)整；采用目標(biāo)模型分別計(jì)算待處理版圖的偏移誤差以及第一數(shù)量個(gè)調(diào)整后的版圖的偏移誤差，以得到第二數(shù)量個(gè)偏移誤差；基于第二數(shù)量個(gè)偏移誤差，獲得最終偏移誤差；基于最終偏移誤差確定是否選擇目標(biāo)模型。通過(guò)本申請(qǐng)技術(shù)方案能夠提升模型選擇的可靠性。

本發(fā)明授權(quán)基于偏移誤差的模型選擇方法及裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)、終端設(shè)備在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基于偏移誤差的模型選擇方法，其特征在于，包括： 獲取待處理版圖； 采用目標(biāo)模型對(duì)所述待處理版圖進(jìn)行多次調(diào)整，以得到第一數(shù)量個(gè)調(diào)整后的版圖，其中，所述目標(biāo)模型用于根據(jù)光學(xué)臨近效應(yīng)對(duì)待處理版圖進(jìn)行尺寸調(diào)整； 采用所述目標(biāo)模型分別計(jì)算所述待處理版圖的偏移誤差以及所述第一數(shù)量個(gè)調(diào)整后的版圖的偏移誤差，以得到第二數(shù)量個(gè)偏移誤差； 基于所述第二數(shù)量個(gè)偏移誤差，獲得最終偏移誤差，具體為，獲取所述第二數(shù)量個(gè)偏移誤差中最大值；將所述最大值確定為所述最終偏移誤差； 基于所述最終偏移誤差確定是否選擇所述目標(biāo)模型。

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