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龍圖騰網(wǎng)獲悉株式會(huì)社荏原制作所申請的專利鍍覆方法以及鍍覆裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN119013440B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-08發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號(hào)為：202280008820.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C25D21/00；該發(fā)明授權(quán)鍍覆方法以及鍍覆裝置是由辻一仁;山本健太郎設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-08-02向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本鍍覆方法以及鍍覆裝置在說明書摘要公布了：一種鍍覆方法，其通過具備基板支架的鍍覆裝置對基板進(jìn)行鍍覆處理，上述基板支架包含與上述基板能夠?qū)ǖ亟佑|的接觸部件，上述鍍覆方法包括：在上述基板支架傾斜了的狀態(tài)下，使上述基板支架以第1旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)的步驟；朝向以上述第1旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)的上述基板支架排出液體，以便向上述接觸部件供給上述液體的步驟；停止上述液體的上述排出的步驟；在停止上述液體的上述排出之前或在之后的規(guī)定時(shí)間內(nèi)，開始使上述基板支架向水平位置減少傾斜的步驟；在上述基板支架位于上述水平位置的狀態(tài)下，使上述基板支架以比上述第1旋轉(zhuǎn)速度快的第2旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)的步驟；以及在上述基板安裝于上述基板支架后，對上述基板進(jìn)行上述鍍覆處理的步驟。

本發(fā)明授權(quán)鍍覆方法以及鍍覆裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種鍍覆方法，其通過具備基板支架的鍍覆裝置對基板進(jìn)行鍍覆處理，所述基板支架包含與所述基板能夠?qū)ǖ亟佑|的接觸部件， 所述鍍覆方法的特征在于，包括： 使所述基板支架傾斜的步驟； 在所述基板支架傾斜了的狀態(tài)下，使所述基板支架以第1旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)的步驟； 朝向以所述第1旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)的所述基板支架排出液體，以便向所述接觸部件供給所述液體的步驟； 停止所述液體的所述排出的步驟； 在停止所述液體的所述排出之前或在之后的規(guī)定時(shí)間內(nèi)，開始使所述基板支架向水平位置減少傾斜的步驟； 在所述基板支架位于所述水平位置的狀態(tài)下，使所述基板支架以比所述第1旋轉(zhuǎn)速度快的第2旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)的步驟； 停止所述基板支架的所述第2旋轉(zhuǎn)速度的旋轉(zhuǎn)的步驟； 在停止了所述旋轉(zhuǎn)的所述基板支架安裝所述基板的步驟；以及 對所安裝的所述基板進(jìn)行所述鍍覆處理的步驟， 所述規(guī)定時(shí)間為2秒以下。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人株式會(huì)社荏原制作所，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。