清鋒(北京)科技有限公司李楊獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉清鋒(北京)科技有限公司申請的專利一種用于增材制造的點陣結構生成的方法、系統及裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115476503B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-08發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202110668577.X,技術領域涉及:B29C64/10;該發明授權一種用于增材制造的點陣結構生成的方法、系統及裝置是由李楊設計研發完成,并于2021-06-16向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種用于增材制造的點陣結構生成的方法、系統及裝置在說明書摘要公布了:本說明書涉及一種用于增材制造的點陣結構生成方法,所述方法包括:生成覆蓋待打印模型的單元格模型,所述單元格模型由多個虛擬單元格組成,多個虛擬單元格包括至少一個外部虛擬單元格,每個外部虛擬單元格至少有一部分位于所述待打印模型的外輪廓外部;在所述單元格模型中的每個虛擬單元格中填充胞元結構,以獲得點陣模型;基于所述待打印模型的外輪廓對所述點陣模型中與所述至少一個外部虛擬單元格對應的目標部分進行修正,以得到修正后的點陣模型,所述修正后的點陣模型用于對所述待打印模型進行增材制造。
本發明授權一種用于增材制造的點陣結構生成的方法、系統及裝置在權利要求書中公布了:1.一種用于增材制造的點陣結構生成方法,其特征在于,所述方法包括: 生成覆蓋待打印模型的單元格模型,所述單元格模型由多個虛擬單元格組成,所述多個虛擬單元格包括至少一個外部虛擬單元格,每個外部虛擬單元格至少有一部分位于所述待打印模型的外輪廓外部; 在所述單元格模型中的每個虛擬單元格中填充胞元結構,以獲得點陣模型; 獲取所述待打印模型的外輪廓的外偏置面,所述外偏置面為對所述外輪廓向外偏置第一距離所得; 獲取所述待打印模型的外輪廓的內偏置面,所述內偏置面為對所述外輪廓向內偏置第二距離所得; 將處于所述內偏置面與所述外偏置面之間的節點確定為至少一個目標節點; 將所述至少一個目標節點偏移至所述外輪廓上,所述偏移后的目標節點和所述點陣模型中的其他節點組成初步修正后的點陣模型; 基于所述待打印模型的所述外輪廓對所述初步修正后的點陣模型的目標部分進行切割,去除在所述外輪廓以外的部分胞元結構,其中,每個被切割的胞元結構與所述外輪廓之間產生至少一個切割斷點; 對所述切割斷點進行處理,以得到修正后的點陣模型,所述修正后的點陣模型用于對所述待打印模型進行增材制造。
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