季華實驗室汪偉獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉季華實驗室申請的專利基于雙光梳面域掃頻的表面形貌檢測方法、系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120252573B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510758017.1，技術領域涉及：G01B11/24；該發明授權基于雙光梳面域掃頻的表面形貌檢測方法、系統是由汪偉;羅卓軍;李宣令;徐成;張海裕;李磊;畢海設計研發完成，并于2025-06-09向國家知識產權局提交的專利申請。
本基于雙光梳面域掃頻的表面形貌檢測方法、系統在說明書摘要公布了：本申請公開了一種基于雙光梳面域掃頻的表面形貌檢測方法、系統，涉及表面形貌檢測的技術領域。在本申請中，利用面域掃頻使得雙光梳實現掃頻功能，從而使得可高精度測距的雙光梳光源能被應用在干涉光路中以實現面陣測距成為可能。以此，使用雙光梳掃頻取代傳統光源掃頻，利用雙光梳多外差干涉結合面域掃頻，極大提高縱向深度的測量精度，進而提高基于縱向深度的三維重建時的精度，實現突破微米級、達到亞納米級的超高分辨率，實際上，可實現縱向分辨率≤0.1nm的原子級表面形貌檢測。
本發明授權基于雙光梳面域掃頻的表面形貌檢測方法、系統在權利要求書中公布了：1.一種基于雙光梳面域掃頻的表面形貌檢測方法，其特征在于，所述基于雙光梳面域掃頻的表面形貌檢測方法包括： 將第三半透半反鏡作為偏振合束器，并將雙光梳光源各自的光束經過所述第三半透半反鏡，使得雙光梳光源各自的光束具備正交的偏振態，得到正交偏振態的第一光束； 將通過面域掃頻模塊動態調整所述第一光束的波長得到的掃頻光束，依次經過用于光波調制的空間光調制模塊和用于調整光強分布的光束整形模塊形成理想出射光束，并將所述理想出射光束作為第二光束，其中，動態調整所述第一光束的波長即為掃頻； 將所述第二光束偏振分束為參考光束和樣品光束，其中，所述樣品光束通過微透鏡陣列同時聚束到待測樣品后的回光與所述參考光束合束形成合束光束，并通過光電探測器探測所述合束光束，得到雙光梳多外差干涉信號，所述雙光梳多外差干涉信號為雙光梳各自對應的干涉信號； 基于所述雙光梳多外差干涉信號確定所述待測樣品的測距距離，所述測距距離為所述待測樣品表面與預設標準平面之間的距離； 將所述測距距離作為所述待測樣品的一維深度信息，并基于所述一維深度信息檢測所述待測樣品的表面形貌。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人季華實驗室，其通訊地址為：528200 廣東省佛山市南海區桂城街道環島南路28號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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