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龍圖騰網(wǎng)獲悉西安電子科技大學(xué)申請(qǐng)的專利基于低剖面的Ka波段超表面單元及其加載的波束掃描天線獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN116031658B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202310202469.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01Q15/00；該發(fā)明授權(quán)基于低剖面的Ka波段超表面單元及其加載的波束掃描天線是由張帥;閆登輝;林志成;張德訓(xùn);陳俁設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-03-06向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本基于低剖面的Ka波段超表面單元及其加載的波束掃描天線在說明書摘要公布了：一種基于低剖面的Ka波段超表面單元，包括上介質(zhì)基板和下介質(zhì)基板，上介質(zhì)基板的上表面、下介質(zhì)基板的下表面以及上介質(zhì)基板的下表面或下介質(zhì)基板的上表面，均印制有相同圖案且投影相對(duì)的金屬層；金屬層包括K條第一弧形金屬線和K條金屬線；貫通上介質(zhì)基板和下介質(zhì)基板設(shè)置有K個(gè)第一金屬化過孔和K個(gè)第二金屬化過孔，第一金屬化過孔連接各金屬層上投影相對(duì)的第一弧形金屬線；第二金屬化過孔連接各金屬層上投影相對(duì)的金屬線。本發(fā)明還提供了相應(yīng)的波束天線，通過對(duì)不同位置使用不同的超表面單元進(jìn)行相位補(bǔ)償，實(shí)現(xiàn)波束偏轉(zhuǎn)，通過改變兩個(gè)超表面之間的相對(duì)旋轉(zhuǎn)角度實(shí)現(xiàn)主波束在俯仰面上的掃描。

本發(fā)明授權(quán)基于低剖面的Ka波段超表面單元及其加載的波束掃描天線在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基于低剖面的Ka波段超表面單元，其特征在于，包括上介質(zhì)基板2和下介質(zhì)基板3，所述上介質(zhì)基板2的上表面、所述下介質(zhì)基板3的下表面以及所述上介質(zhì)基板2的下表面或所述下介質(zhì)基板3的上表面，均印制有相同圖案且投影相對(duì)的金屬層1； 所述金屬層1包括K條第一弧形金屬線103、K條第二弧形金屬線104和K條金屬線105；所述K條第一弧形金屬線103位于第一圓周，且中心對(duì)稱分布；每條金屬線105的一端在所述中心處連接，每條金屬線105的另一端與一條第一弧形金屬線103的中點(diǎn)相對(duì)且具有間距；其中K＞1；所述K條第二弧形金屬線104位于第二圓周，且中心對(duì)稱分布；所述第一圓周與所述第二圓周共圓心，且所述第一圓周的半徑大于所述第二圓周的半徑；所述每條金屬線105的另一端與一條第二弧形金屬線104的中點(diǎn)連接； 貫通所述上介質(zhì)基板2和下介質(zhì)基板3設(shè)置有K個(gè)第一金屬化過孔101和K個(gè)第二金屬化過孔102，所述第一金屬化過孔101連接各金屬層1上投影相對(duì)的第一弧形金屬線103；所述第二金屬化過孔102連接各金屬層1上投影相對(duì)的金屬線105； 通過改變第一弧形金屬線103、第二弧形金屬線104和金屬線105的尺寸實(shí)現(xiàn)不同的相位梯度，相位梯度單元越多，在相位補(bǔ)償時(shí)結(jié)果越精確。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人西安電子科技大學(xué)，其通訊地址為：710071 陜西省西安市雁塔區(qū)太白南路2號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。