光馳科技(上海)有限公司李衛濤獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉光馳科技(上海)有限公司申請的專利一種膜系結構及其制作方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116990887B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210449056.X，技術領域涉及：G02B1/10；該發明授權一種膜系結構及其制作方法是由李衛濤設計研發完成，并于2022-04-26向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種膜系結構及其制作方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種膜系結構及其制作方法。該膜系結構為：Sub|HL^a2H^bLH^c2L^d^eHL^a2H^bLH^cfL|Air；其中，Sub為基板，Air為出射介質空氣，H為14中心波長光學厚度的高折射率材料，L為14中心波長光學厚度的低折射率材料，a、b、c、d、e、f均為正整數；其中，HL^a表示依次沉積H膜層和L膜層并重復a次；2H^b表示依次沉積H膜層和H膜層并重復b次；LH^c表示依次沉積L膜層和H膜層并重復c次；2L^d表示依次沉積L膜層和L膜層并重復d次；HL^a2H^bLH^c2L^d^e表示膜堆HL^a2H^bLH^c2L^d重復e次；fL表示L膜層重復f次。本發明實施例的技術方案能夠在修正膜厚均勻性的同時，還可以用來修正高低折射率材料的光學厚度相對比例，具有準確和高效的特點。
本發明授權一種膜系結構及其制作方法在權利要求書中公布了：1.一種膜系結構，其特征在于，所述膜系結構為： Sub|HL^a2H^bLH^c2L^d^eHL^a2H^bLH^cfL|Air； 其中，Sub為基板，Air為出射介質空氣，H為14中心波長光學厚度的高折射率材料，L為14中心波長光學厚度的低折射率材料，a、b、c、d、e、f均為正整數； 其中，HL^a表示依次沉積H膜層和L膜層并重復a次；2H^b表示依次沉積H膜層和H膜層并重復b次；LH^c表示依次沉積L膜層和H膜層并重復c次；2L^d表示依次沉積L膜層和L膜層并重復d次；HL^a2H^bLH^c2L^d^e表示膜堆HL^a2H^bLH^c2L^d重復e次；fL表示L膜層重復f次； 其中，1≤a≤5，1≤c≤5； 1≤b≤2，1≤d≤2，1≤e≤2，1≤f≤2。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人光馳科技(上海)有限公司，其通訊地址為：200436 上海市寶山區寶山城市工業園區城銀路267，297號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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