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龍圖騰網獲悉河南鍍邦光電股份有限公司申請的專利一種蓋板超低應力復合色薄膜及其鍍膜工藝獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116043163B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210301989.4，技術領域涉及：C23C14/08；該發明授權一種蓋板超低應力復合色薄膜及其鍍膜工藝是由李智超;畢文江;孫波;趙松;徐光科;馮志宏設計研發完成，并于2022-03-25向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種蓋板超低應力復合色薄膜及其鍍膜工藝在說明書摘要公布了：本發明涉及光學薄膜技術領域，提出一種蓋板超低應力復合色薄膜及其鍍膜工藝。包括基材，其中，在所述基材表面鍍制膜層，所述膜層采用SiO2和Al2O3的低折射率材料，Ta2O5、Nb2O5、Ti3O5的高折射率材料的交替循環結構，膜層共9層。與現有技術相比，本發明中玻璃表面膜層厚度均勻較薄，監控方便，膜層在白片基材面，顏色藍色，在終端嚴格的測試標準中能穩定合格，極限測試產品在60cm高度跌落測試外觀無變化、無腐蝕、變色、起泡、開裂、膜層脫落等異常現象，另外本發明采用的膜層材料常見，內應力超低、附著力強、耐磨損、耐汗液，耐酸堿腐蝕，耐鋼絲絨摩擦，耐橡皮摩擦，耐振動摩擦等性能。

本發明授權一種蓋板超低應力復合色薄膜及其鍍膜工藝在權利要求書中公布了：1.一種蓋板超低應力復合色薄膜的鍍膜工藝，其特征在于，包括基材，以及鍍制在基材表面的薄膜；鍍膜設備為離子束輔助沉積設備，單槍低溫鍍膜；所述基材選擇BK7玻璃，折射率在1.52；所述薄膜膜系結構如下：HLHLHLHML，所述H為高折射率材料Ta2O5或Nb2O5或Ti3O5，所述L為低折射率材料SiO2，M為Al2O3；每層低折射率薄膜厚度為10nm-100nm，每層高折射率薄膜厚度為5nm-50nm，Al2O3薄膜厚度為10nm-50nm；所述高折射率材料成膜時，射頻源充入氧氣：氬氣體積占比5：1或者6：1的氣體，氬氣流量在8-25sccm，氧氣流量在80-110sccm，其中射頻電流在800-1200mA，電壓在1000-1400V，鍍膜速率3-4速率3?s；低折射率材料成膜時，射頻源充入氧氣：氬氣體積占比在4：1或者5：2的氣體，氬氣流量在5-15sccm，氧氣流量在10-50sccm，其中射頻電流在800-1200mA，電壓在800-1300V，鍍膜速率控制在4-8?s；Al2O3膜層在鍍膜過程中采用低溫離子輔助沉積，速率3?s。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人河南鍍邦光電股份有限公司，其通訊地址為：473000 河南省南陽市高新區光電產業園區（信臣路）；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。