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龍圖騰網獲悉啟先核(北京)科技有限公司申請的專利一種三束同時輻照裝置及其方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114916117B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110177456.5，技術領域涉及：H05H5/06；該發明授權一種三束同時輻照裝置及其方法是由姜山;姬卿設計研發完成，并于2021-02-09向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種三束同時輻照裝置及其方法在說明書摘要公布了：本發明提供一種三束同時輻照裝置及其方法，三束同時輻照裝置包括離子源子系統、初階加速子系統、第二階加速子系統和靶室子系統，所述離子源子系統、所述初階加速子系統和所述第二階加速子系統依序連接，所述靶室子系統均與所述初階加速子系統和所述第二階加速子系統連接。本發明采用多電荷態的ECR離子源部件能同時產生質子H、阿爾法4He2+和重離子如12C、或56Fe、或63Cu、以及更重的離子三種乃至三種以上的離子，然后采用階梯式從低到高同時加速并同時輻照到樣品上，實現三束乃至更多束的輻照。

本發明授權一種三束同時輻照裝置及其方法在權利要求書中公布了：1.一種三束同時輻照裝置，其特征在于，其包括離子源子系統、初階加速子系統、第二階加速子系統和靶室子系統，所述離子源子系統、所述初階加速子系統和所述第二階加速子系統依序連接，所述靶室子系統包括與所述初階加速子系統連接的第一靶室和第二靶室，和與所述第二階加速子系統連接的第三靶室和第四靶室； 所述離子源子系統包括一個ECR離子源部件，所述ECR離子源部件產生至少三種多電荷態離子以及H+和H2 +兩種單電荷態離子； 所述初階加速子系統包括與所述ECR離子源部件連接的初階加速管部件以及與所述初階加速管部件連接的低能靜電分析器或磁分析器部件，所述第一靶室和第二靶室對經過所述低能靜電分析器或磁分析器部件的低能量離子進行束流測量與輻照； 所述第二階加速子系統包括與所述低能靜電分析器或磁分析器部件連接的第二階加速管部件以及與所述第二階加速管部件連接的90°磁分析器部件，所述第三靶室和第四靶室對經過所述90°磁分析器部件的高能量離子進行束流測量與樣品輻照。

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