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龍圖騰網獲悉東京毅力科創株式會社申請的專利基板處理裝置、基板處理方法和化學溶液獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113161259B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110030540.4，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權基板處理裝置、基板處理方法和化學溶液是由坂崎哲也;小杉仁設計研發完成，并于2021-01-11向國家知識產權局提交的專利申請。

本基板處理裝置、基板處理方法和化學溶液在說明書摘要公布了：[課題]提供：可以抑制蝕刻后的金屬膜的表面粗糙的基板處理裝置、基板處理方法和化學溶液。[解決方案]基板處理裝置具備：基板旋轉部，其保持在表面形成有金屬的膜的基板并使其旋轉；第1供給部，其向前述基板供給包含螯合劑和溶劑的第1處理液；第2供給部，其向前述基板供給包含水的第2處理液；和，控制部，其用于控制前述基板旋轉部、前述第1供給部和前述第2供給部，前述控制部邊通過前述基板旋轉部使前述基板旋轉，邊通過前述第1供給部向前述基板供給前述第1處理液并生成包含前述金屬和前述螯合劑的絡合物，在生成前述絡合物后，通過前述第2供給部向前述基板供給前述第2處理液并使前述絡合物溶解于前述第2處理液。

本發明授權基板處理裝置、基板處理方法和化學溶液在權利要求書中公布了：1.一種基板處理裝置，其具備： 基板旋轉部，其保持在表面形成有金屬的膜的基板并使其旋轉； 第1供給部，其向所述基板供給包含螯合劑和溶劑的第1處理液； 第2供給部，其向所述基板供給包含水的第2處理液；和， 控制部，其用于控制所述基板旋轉部、所述第1供給部和所述第2供給部， 所述控制部邊通過所述基板旋轉部使所述基板旋轉，邊通過所述第1供給部向所述基板供給所述第1處理液并生成包含所述金屬和所述螯合劑的絡合物， 在生成所述絡合物后，通過所述第2供給部向所述基板供給所述第2處理液并使所述絡合物溶解于所述第2處理液， 在所述金屬的膜的表面形成有由金屬原子的氧化物構成的鈍化膜，在向所述基板供給所述第1處理液時，所述螯合劑的一部分附著于所述氧化物，生成包含所述氧化物和所述螯合劑的絡合物， 所述基板處理裝置還具備第3供給部，所述第3供給部向所述基板供給水溶性的第3處理液， 對于所述控制部，在生成所述絡合物后、且供給所述第2處理液前，通過所述第3供給部向所述基板供給所述第3處理液并將殘留于所述基板上的所述螯合劑去除。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。