中國工程物理研究院激光聚變研究中心張傳超獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中國工程物理研究院激光聚變研究中心申請的專利一種大口徑二維連續偏振調制元件及制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116466425B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310270554.2，技術領域涉及：G02B5/30；該發明授權一種大口徑二維連續偏振調制元件及制備方法是由張傳超;廖威;王海軍;張麗娟;蔣曉龍;方振華;蔣曉東;朱啟華設計研發完成，并于2023-03-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種大口徑二維連續偏振調制元件及制備方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種大口徑二維連續偏振調制元件及制備方法。該元件表面具有二維點陣式內應力分布，每一應力點均可實現線偏振光?橢圓偏振光?圓偏振光?橢圓偏振光?圓偏振光?線偏振光的連續偏振調制。該元件制備包括：選取抗熱沖的光學玻璃作為基板；在基板某局部點進行熱處理引入熱殘余應力作為內應力，并基于內應力的雙折射效應實現該局部點的偏振連續調制；通過在基板表面引入二維熱殘余應力陣列實現了大口徑二維連續偏振調制。該方法不僅極大簡化了大口徑二維連續偏振調制元件的制作流程，避免了使用昂貴的超大尺寸晶體材料，而且還實現了整個大口徑光束偏振的精確調制，其激光損傷閾值高，尤其適用于大口徑光束的激光裝置。
本發明授權一種大口徑二維連續偏振調制元件及制備方法在權利要求書中公布了：1.一種大口徑二維連續偏振調制元件的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括如下步驟： 步驟S1，選擇抗熱沖擊的光學玻璃作為基板； 步驟S2，對基板上進行熱處理產生熱殘余應力作為內應力，進而實現應力偏振調控； 步驟S2具體包括： S21選擇CO2激光作為點熱源輻照基板，使基板輻照點處快速加熱，關閉CO2激光，降溫后在基板所述輻照點處引入熱殘余應力，并且使基板所述輻照點處的最大光程差達到第一目標值； S22調試CO2激光輻照點之間的間距，在基板上完成陣列式輻照，進而引入二維熱殘余應力陣列，使基板的最大光程差達到第二目標值。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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