EMD株式會社江部明憲獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉EMD株式會社申請的專利等離子源獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN112702829B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202011131198.9,技術領域涉及:H05H1/46;該發明授權等離子源是由江部明憲設計研發完成,并于2020-10-21向國家知識產權局提交的專利申請。
本等離子源在說明書摘要公布了:本發明提供一種感應耦合型的等離子源,其具有構造簡易、且可抑制裝置所需成本的天線的冷卻機構。等離子源10是于真空容器21內生成等離子的裝置,其具備設于真空容器21的壁211的框天線固定框12、及固定于上述框內的面狀的天線11。由于天線11的周圍被上述框包圍,故天線11所產生的熱自其周圍流出至框,進而自框流出至真空容器,因此高效地冷卻。因此,無需使用液體或氣體的冷媒,可使構造簡化,且無需冷媒的溫度管理裝置或循環裝置,因此可抑制裝置所需的成本。
本發明授權等離子源在權利要求書中公布了:1.一種等離子源,其是于真空容器內生成等離子的裝置,其具備: a設于上述真空容器的壁的框; b固定于上述框內的面狀的天線;及 c絕緣體板,該絕緣體板是絕緣體制的板材,配置于上述天線的上述真空容器的外部側,與上述框接觸; 并且未設置通過流動冷媒來冷卻上述天線的冷卻機構; 上述框及上述天線設于封堵上述真空容器所具有的開口的蓋構件; 上述天線與上述絕緣體板之間填充有介電體制的接著劑; 使上述天線所產生的熱經由固定有該天線的上述框傳遞至熱浴亦即上述真空容器,由此冷卻上述天線。
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