買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標(biāo)用IPTOP,全免費(fèi)！專利年費(fèi)監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)獲悉賽萊克斯微系統(tǒng)科技(北京)有限公司申請(qǐng)的專利一種微系統(tǒng)薄膜平坦化方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115385295B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-19發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202210411850.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B81C1/00；該發(fā)明授權(quán)一種微系統(tǒng)薄膜平坦化方法是由周國(guó)安;羅大杰;馬琳設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-04-19向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種微系統(tǒng)薄膜平坦化方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種微系統(tǒng)薄膜平坦化方法，其中包括：提供形成有圖形化薄膜的半導(dǎo)體襯底；在圖形化薄膜上形成平坦層，對(duì)圖形化薄膜形成圖形化填充；采用多區(qū)域拋光頭對(duì)平坦層拋光至預(yù)設(shè)厚度；拋光時(shí)間不大于3min；對(duì)拋光后的平坦層在化學(xué)機(jī)械平坦化設(shè)備內(nèi)進(jìn)行清洗。本發(fā)明方法制作薄膜時(shí)厚度更易于控制，且獲得的薄膜平坦度及穩(wěn)定性更加良好。

本發(fā)明授權(quán)一種微系統(tǒng)薄膜平坦化方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種微系統(tǒng)薄膜平坦化方法，其特征在于，包括： 提供形成有圖形化薄膜的半導(dǎo)體襯底； 在所述圖形化薄膜上形成平坦層，對(duì)所述圖形化薄膜形成圖形化填充； 采用多區(qū)域拋光頭對(duì)所述平坦層拋光至預(yù)設(shè)厚度；其中，拋光時(shí)間不大于3min； 對(duì)拋光后的所述平坦層在化學(xué)機(jī)械平坦化設(shè)備內(nèi)進(jìn)行清洗； 所述平坦層包括第一平坦層和第二平坦層；所述在所述圖形化薄膜上形成平坦層，包括： 在所述圖形化薄膜上沉積所述第一平坦層； 對(duì)所述第一平坦層進(jìn)行快速熱退火處理； 在完成快速熱退火處理的所述第一平坦層上沉積所述第二平坦層； 對(duì)所述第二平坦層進(jìn)行快速熱退火處理； 所述采用多區(qū)域拋光頭對(duì)所述平坦層拋光至預(yù)設(shè)厚度，包括： 控制所述拋光頭壓力為不小于5psi、轉(zhuǎn)速不小于100rpm、所述拋光頭和拋光臺(tái)的轉(zhuǎn)速差異不大于6rpm，以使所述拋光速率達(dá)到8000分鐘-13000埃分鐘。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人賽萊克斯微系統(tǒng)科技(北京)有限公司，其通訊地址為：100176 北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)科創(chuàng)十四街99號(hào)33幢D棟二層2208號(hào)（集中辦公區(qū)）；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。