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龍圖騰網(wǎng)獲悉三菱瓦斯化學(xué)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利聚酰亞胺樹脂、聚酰亞胺清漆和聚酰亞胺薄膜獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN116323761B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-19發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202180070346.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C08G73/10；該發(fā)明授權(quán)聚酰亞胺樹脂、聚酰亞胺清漆和聚酰亞胺薄膜是由安孫子洋平;石井健太郎;村谷孝博設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-10-15向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本聚酰亞胺樹脂、聚酰亞胺清漆和聚酰亞胺薄膜在說明書摘要公布了：一種聚酰亞胺樹脂，其包含源自四羧酸二酐的結(jié)構(gòu)單元A和源自二胺的結(jié)構(gòu)單元B，結(jié)構(gòu)單元A包含源自分子內(nèi)具有2個(gè)降冰片烷骨架的四羧酸二酐的結(jié)構(gòu)單元A1聚酰亞胺樹脂，結(jié)構(gòu)單元B包含源自下述式b1所示化合物的結(jié)構(gòu)單元B1，結(jié)構(gòu)單元B中的結(jié)構(gòu)單元B1的比率為35摩爾％以上且95摩爾％以下。

本發(fā)明授權(quán)聚酰亞胺樹脂、聚酰亞胺清漆和聚酰亞胺薄膜在權(quán)利要求書中公布了：1.一種聚酰亞胺樹脂，其包含源自四羧酸二酐的結(jié)構(gòu)單元A和源自二胺的結(jié)構(gòu)單元B， 所述結(jié)構(gòu)單元A包含源自分子內(nèi)具有2個(gè)降冰片烷骨架的四羧酸二酐的結(jié)構(gòu)單元A1， 其中，所述結(jié)構(gòu)單元A1包含選自由源自下述式a11所示化合物的結(jié)構(gòu)單元A11、源自下述式a12所示化合物的結(jié)構(gòu)單元A12、源自下述式a13所示化合物的結(jié)構(gòu)單元A13和源自下述式a14所示化合物的結(jié)構(gòu)單元A14組成的組中的至少一種， 所述結(jié)構(gòu)單元A中的所述結(jié)構(gòu)單元A1的比率為80摩爾％以上， 所述結(jié)構(gòu)單元B包含源自下述式b1所示化合物的結(jié)構(gòu)單元B1， 所述結(jié)構(gòu)單元B中的所述結(jié)構(gòu)單元B1的比率為35摩爾％以上且95摩爾％以下， 所述結(jié)構(gòu)單元B還包含結(jié)構(gòu)單元B2，所述結(jié)構(gòu)單元B2包含選自由源自下述式b21所示化合物的結(jié)構(gòu)單元B21、源自下述式b22所示化合物的結(jié)構(gòu)單元B22、源自下述式b23所示化合物的結(jié)構(gòu)單元B23和源自下述式b24所示化合物的結(jié)構(gòu)單元B24組成的組中的至少一種， 所述結(jié)構(gòu)單元B中的所述結(jié)構(gòu)單元B1與所述結(jié)構(gòu)單元B2的摩爾比，即B1B2，為3565～955。

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