株式會(huì)社堀場STEC安田忠弘獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉株式會(huì)社堀場STEC申請(qǐng)的專利流體控制裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114600056B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202080074025.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G05D7/06；該發(fā)明授權(quán)流體控制裝置是由安田忠弘;安德魯·普萊斯;馬雷設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-10-23向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本流體控制裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種流體阻抗組件，使得享有使用陶瓷形成阻抗流路帶來的優(yōu)點(diǎn)的同時(shí)，能夠?qū)⒃摿黧w阻抗組件合理地組裝至流體所流動(dòng)的流路，流體阻抗組件R包括：陶瓷制的流路形成構(gòu)件10，具有一個(gè)或多個(gè)阻抗流路10a；以及金屬制的被覆構(gòu)件20，覆蓋流路形成構(gòu)件10的外周面。
本發(fā)明授權(quán)流體控制裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種流體控制裝置，其包括： 內(nèi)部流路，供流體流動(dòng)； 流體阻抗組件，嵌入固定于所述內(nèi)部流路；以及 上游側(cè)壓力傳感器及下游側(cè)壓力傳感器，設(shè)置于所述內(nèi)部流路中的所述流體阻抗組件的上游側(cè)及下游側(cè)， 所述流體控制裝置的特征在于， 所述流體阻抗組件具有： 陶瓷制的流路形成構(gòu)件，具有一個(gè)或多個(gè)阻抗流路；以及 金屬制的被覆構(gòu)件，覆蓋所述流路形成構(gòu)件的外周面，與所述陶瓷相比硬度低。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人株式會(huì)社堀場STEC，其通訊地址為：日本京都府；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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