ASML荷蘭有限公司F·斯塔爾斯獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉ASML荷蘭有限公司申請的專利用于推斷諸如焦距的處理參數的方法和相關聯裝置和制造方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114616523B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080075093.8，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權用于推斷諸如焦距的處理參數的方法和相關聯裝置和制造方法是由F·斯塔爾斯設計研發完成，并于2020-09-07向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于推斷諸如焦距的處理參數的方法和相關聯裝置和制造方法在說明書摘要公布了：公開了一種推斷光刻工藝的第一處理參數的值的方法，第一處理參數受制于第二處理參數的耦合相關性。方法包括根據測量數據確定第一度量和第二度量，第一度量和第二度量中的每一者取決于第一處理參數和第二處理參數兩者。第一度量表示與第二處理參數相比對第一處理參數更強的相關性，并且第二度量表示與第一處理參數相比對第二處理參數更強的相關性。根據所述第一度量和第二度量推斷第一處理參數的值。
本發明授權用于推斷諸如焦距的處理參數的方法和相關聯裝置和制造方法在權利要求書中公布了：1.一種推斷光刻工藝的第一處理參數的值和第二處理參數的值的方法，所述方法包括： 根據測量數據確定第一度量和第二度量，所述測量數據與襯底上的使用所述光刻工藝形成的至少一個結構有關，所述第一度量和第二度量中的每一者取決于所述第一處理參數和所述第二處理參數兩者，所述第一度量對所述第一處理參數的相關性與所述第一度量對所述第二處理參數的相關性不同，并且所述第二度量對所述第二處理參數的相關性與所述第二度量對所述第一處理參數的相關性不同；以及 根據所述第一度量和第二度量推斷所述第一處理參數的所述值和所述第二處理參數的所述值， 其中推斷步驟包括參考校準關系，所述校準關系描述了針對所述第一處理參數和所述第二處理參數的不同值的、所述第一度量與所述第二度量的關系。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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