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龍圖騰網(wǎng)獲悉株式會社富士申請的專利基于等離子體的處理的處理條件決定方法及處理條件決定裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115804249B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080102821.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H05H1/32；該發(fā)明授權(quán)基于等離子體的處理的處理條件決定方法及處理條件決定裝置是由伊藤俊輔;神藤高廣設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-08-18向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本基于等離子體的處理的處理條件決定方法及處理條件決定裝置在說明書摘要公布了：基于等離子體的處理的處理條件決定方法包含如下的工序：照射工序，使頭在相對于對象物保持預(yù)定的目標(biāo)距離的狀態(tài)下以預(yù)定的目標(biāo)速度移動，并且從頭向?qū)ο笪锏谋砻嬲丈涞入x子體；測定工序，測定執(zhí)行了照射工序之后的對象物的表面狀態(tài)；計算工序，反復(fù)執(zhí)行照射工序和測定工序，根據(jù)直到對象物的表面狀態(tài)飽和為止所需的照射工序的執(zhí)行次數(shù)，計算通過執(zhí)行一次照射工序而使對象物的表面狀態(tài)飽和所需的必要速度；及決定工序，將必要速度決定為頭的處理速度。

本發(fā)明授權(quán)基于等離子體的處理的處理條件決定方法及處理條件決定裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基于等離子體的處理的處理條件決定方法，包含如下的工序： 照射工序，使頭在相對于對象物而保持預(yù)定的目標(biāo)距離的狀態(tài)下以預(yù)定的目標(biāo)速度移動，并且從所述頭向所述對象物的表面照射等離子體； 測定工序，測定執(zhí)行了所述照射工序之后的所述對象物的表面狀態(tài)； 計算工序，反復(fù)執(zhí)行所述照射工序和所述測定工序，根據(jù)直到所述對象物的表面狀態(tài)飽和為止所需的所述照射工序的執(zhí)行次數(shù)，計算通過執(zhí)行一次所述照射工序而使所述對象物的表面狀態(tài)飽和所需的必要速度；及 決定工序，將所述必要速度決定為所述頭的處理速度。

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