江蘇神州半導體科技有限公司潘小剛獲國家專利權
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龍圖騰網(wǎng)獲悉江蘇神州半導體科技有限公司申請的專利一種遠程等離子源石英腔體氣泡消除控制方法及裝置獲國家發(fā)明授權專利權,本發(fā)明授權專利權由國家知識產(chǎn)權局授予,授權公告號為:CN120354267B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉:該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為:202510837240.5,技術領域涉及:G06F18/243;該發(fā)明授權一種遠程等離子源石英腔體氣泡消除控制方法及裝置是由潘小剛;顧小軍;束寅志;金玉亮設計研發(fā)完成,并于2025-06-23向國家知識產(chǎn)權局提交的專利申請。
本一種遠程等離子源石英腔體氣泡消除控制方法及裝置在說明書摘要公布了:本發(fā)明屬于遠程等離子源技術領域,提供了一種遠程等離子源石英腔體氣泡消除控制方法及裝置,方法包括:獲取石英腔體的氣泡數(shù)據(jù);基于隨機森林算法獲取工藝參數(shù)對于各氣泡數(shù)據(jù)的重要性度;綜合各氣泡數(shù)據(jù)獲得耦合重要性度;建立關于氣泡數(shù)量M與氣泡最大直徑D的誤差目標函數(shù),對隸屬度權值進行優(yōu)化更新;將優(yōu)化后的隸屬度權值與對應的初始值進行比較,獲得單位時間的各工藝參數(shù)變化率;根據(jù)氣泡數(shù)量M與氣泡最大直徑D的誤差率大小關系,依據(jù)工藝參數(shù)變化率對工藝進行動態(tài)優(yōu)化。本發(fā)明基于隨機森林評估出各工藝參數(shù)的重要性度,根據(jù)檢測氣泡的狀態(tài)優(yōu)化工藝參數(shù),能夠減少石英腔體顆粒對制程腔室的污染,提高遠程等離子源的使用壽命。
本發(fā)明授權一種遠程等離子源石英腔體氣泡消除控制方法及裝置在權利要求書中公布了:1.一種遠程等離子源石英腔體氣泡消除控制方法,其特征在于,包括: 獲取石英腔體的氣泡數(shù)據(jù),包括氣泡數(shù)量和氣泡最大直徑; 基于隨機森林算法,獲取不同工藝參數(shù)對于各氣泡數(shù)據(jù)的重要性度; 綜合各氣泡數(shù)據(jù)的重要性度,獲得耦合重要性度; 建立關于氣泡數(shù)量M與氣泡最大直徑D的誤差目標函數(shù),對氣泡數(shù)量M與氣泡最大直徑D的隸屬度權值進行優(yōu)化更新;所述誤差目標函數(shù),為氣泡數(shù)量誤差閾值,為氣泡最大直徑誤差閾值,為氣泡數(shù)量閾值,為最大直徑閾值,、分別為氣泡數(shù)量和氣泡最大直徑的隸屬度權值; 將優(yōu)化后的隸屬度權值與對應的初始值進行比較,獲得單位時間的各工藝參數(shù)變化率; 根據(jù)氣泡數(shù)量M與氣泡最大直徑D的誤差率大小關系,依據(jù)所述工藝參數(shù)變化率對工藝進行動態(tài)優(yōu)化。
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