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龍圖騰網(wǎng)獲悉常州美科泰樂電機(jī)有限公司申請(qǐng)的專利一種全自動(dòng)自適應(yīng)直流無刷電機(jī)鉚壓工作站獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN120237887B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202510725444.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H02K15/028；該發(fā)明授權(quán)一種全自動(dòng)自適應(yīng)直流無刷電機(jī)鉚壓工作站是由王華媛設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-06-03向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種全自動(dòng)自適應(yīng)直流無刷電機(jī)鉚壓工作站在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種全自動(dòng)自適應(yīng)直流無刷電機(jī)鉚壓工作站，涉及電機(jī)制造技術(shù)領(lǐng)域，包括機(jī)架、鉚壓機(jī)構(gòu)和定位機(jī)構(gòu)，所述機(jī)架上設(shè)置有工作臺(tái)，所述鉚壓機(jī)構(gòu)包括油缸、固定板以及數(shù)個(gè)導(dǎo)桿，所述油缸驅(qū)動(dòng)端連接有上模，所述上模包括上模座、若干上模支柱以及上模圈，所述上模支柱分別連接所述上模座與所述上模圈，所述上模上設(shè)置有潤(rùn)滑組件，所述定位機(jī)構(gòu)包括下模塊，所述下模塊開設(shè)有環(huán)形氣室，所述環(huán)形氣室里設(shè)置有分隔塊，所述分隔塊兩側(cè)分別外接有氣泵，所述環(huán)形氣室內(nèi)間隔設(shè)置有送氣組件。本發(fā)明可以用于殼體、定子鉚壓前的表面清理和潤(rùn)滑，同時(shí)可用于鉚壓后的質(zhì)量自查。

本發(fā)明授權(quán)一種全自動(dòng)自適應(yīng)直流無刷電機(jī)鉚壓工作站在權(quán)利要求書中公布了：1.一種全自動(dòng)自適應(yīng)直流無刷電機(jī)鉚壓工作站，包括機(jī)架1、鉚壓機(jī)構(gòu)和定位機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述機(jī)架1上設(shè)置有工作臺(tái)11，所述定位機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述工作臺(tái)11上，所述鉚壓機(jī)構(gòu)架設(shè)在所述定位機(jī)構(gòu)上側(cè)，所述定位機(jī)構(gòu)包括下模6和一組限位組件8，所述下模6安裝在所述工作臺(tái)11上，所述限位組件8設(shè)置在所述下模6兩側(cè)； 所述下模6包括下模塊62，所述下模塊62上設(shè)置有分隔圈621，所述下模塊62相對(duì)于所述分隔圈621外側(cè)開設(shè)有環(huán)形氣室624，所述環(huán)形氣室624里設(shè)置有分隔塊625，所述分隔塊625兩側(cè)分別外接有氣泵626，所述環(huán)形氣室624內(nèi)間隔設(shè)置有送氣組件7； 所述送氣組件7包括套筒二71，所述套筒二71內(nèi)壁間隔開設(shè)有數(shù)個(gè)滑槽711，所述套筒二71內(nèi)設(shè)置有轉(zhuǎn)筒72，所述轉(zhuǎn)筒72轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在所述環(huán)形氣室624內(nèi)，所述轉(zhuǎn)筒72上側(cè)配合所述滑槽711設(shè)置有滑塊721，所述轉(zhuǎn)筒72下側(cè)開設(shè)有進(jìn)氣口722，所述轉(zhuǎn)筒72內(nèi)設(shè)置有彈簧二73，所述彈簧二73一端連接所述環(huán)形氣室624壁面，所述彈簧二73另一端連接有頂蓋74，所述頂蓋74與所述套筒二71固定連接； 所述頂蓋74圓周開設(shè)有若干通氣口741，所述套筒二71上側(cè)間隔開設(shè)有數(shù)個(gè)連通槽712，所述連通槽712與所述滑槽711錯(cuò)開設(shè)置，所述下模塊62配合各所述送氣組件7開設(shè)有對(duì)應(yīng)的圓孔627，所述圓孔627圓周設(shè)置有與所述連通槽712數(shù)量一致的擋塊628； 所述轉(zhuǎn)筒72下側(cè)設(shè)置有一對(duì)偏轉(zhuǎn)板75，所述環(huán)形氣室624內(nèi)壁配合所述偏轉(zhuǎn)板75設(shè)置有電磁塊629，所述偏轉(zhuǎn)板75朝向所述電磁塊629的一側(cè)為磁吸面，所述電磁塊629與鄰近所述偏轉(zhuǎn)板75的對(duì)應(yīng)面為吸附面。

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