上海微電子裝備(集團)股份有限公司馮建斌獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉上海微電子裝備(集團)股份有限公司申請的專利多光斑零位偏差標定方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115561969B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110750603.3，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權多光斑零位偏差標定方法是由馮建斌;張建新設計研發完成，并于2021-07-02向國家知識產權局提交的專利申請。
本多光斑零位偏差標定方法在說明書摘要公布了：本發明提供了一種多光斑零位偏差標定方法，包括：提供基板，所述基板上具有至少四個測量點；調焦調平系統將同一光束依次投影到每個所述測量點上進行第一次測量，所述光束包含至少兩個測量光斑，每次投影至所述測量點上時，同一個所述測量光斑與所述測量點對準，且至少獲取一個所述測量光斑測量到的所述基板上對應位置的第一位置信息；將所述基板水平旋轉180°，至少獲取一個所述測量光斑測量到的所述基板上對應位置的第二位置信息；利用每個所述測量點對應的所述第一位置信息和所述第二位置信息計算出每個所述測量光斑的零位偏差值；本發明提高了多光斑的零位偏差的標定精度。
本發明授權多光斑零位偏差標定方法在權利要求書中公布了：1.一種多光斑零位偏差標定方法，其特征在于，包括： 提供基板，所述基板上具有至少四個測量點； 調焦調平系統將同一光束依次投影到每個所述測量點上進行第一次測量，所述光束包含至少兩個測量光斑，每次投影至所述測量點上時，同一個所述測量光斑與所述測量點對準，且至少獲取一個所述測量光斑測量到的所述基板上對應位置的第一位置信息； 將所述基板水平旋轉180°，所述調焦調平系統將所述光束依次投影到每個所述測量點上進行第二次測量，每次投影至所述測量點上時，同一個所述測量光斑與所述測量點對準，且至少獲取一個所述測量光斑測量到的所述基板上對應位置的第二位置信息； 利用每個所述測量點對應的所述第一位置信息和所述第二位置信息計算出每個所述測量光斑的零位偏差值。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人上海微電子裝備(集團)股份有限公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區張東路1525號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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