北京北方華創微電子裝備有限公司呂嘉文獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉北京北方華創微電子裝備有限公司申請的專利工藝腔室中工位位置的校準方法、半導體工藝設備獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN112530850B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202011406983.0,技術領域涉及:H01L21/68;該發明授權工藝腔室中工位位置的校準方法、半導體工藝設備是由呂嘉文設計研發完成,并于2020-12-04向國家知識產權局提交的專利申請。
本工藝腔室中工位位置的校準方法、半導體工藝設備在說明書摘要公布了:本申請實施例提供了工藝腔室中工位位置的校準方法、半導體工藝設備,該方法包括:利用傳輸裝置將校準件放置到預設位置,利用校準裝置將校準件旋轉至預設朝向,其中,校準件包括多個開孔,多個開孔與工藝腔室中卡盤上的多個頂針一一對應的設置,開孔的側壁呈錐形,用于容納頂針;利用傳輸裝置將旋轉至預設朝向的校準件傳入工藝腔室,使校準件位于卡盤的上方,升起多個頂針,控制傳輸裝置下降,將多個頂針分別導入多個所述開孔中,由多個頂針支撐校準件;利用傳輸裝置將校準件傳出工藝腔室,并利用校準裝置檢測相對于預設位置校準件在預設方向上的偏移量;基于偏移量對當前的工位位置進行校準,得到校準后的工位位置。
本發明授權工藝腔室中工位位置的校準方法、半導體工藝設備在權利要求書中公布了:1.一種工藝腔室中工位位置的校準方法,其特征在于,所述方法包括: 利用傳輸裝置將校準件放置到預設位置,利用校準裝置將所述校準件旋轉至預設朝向,其中,所述校準件包括多個開孔,多個所述開孔與工藝腔室中卡盤上的多個頂針一一對應的設置,所述開孔的側壁呈錐形,用于容納所述頂針; 利用傳輸裝置將旋轉至所述預設朝向的所述校準件傳入所述工藝腔室,使所述校準件位于所述卡盤的上方,升起多個所述頂針,控制所述傳輸裝置下降,將多個所述頂針分別導入多個所述開孔中,由多個所述頂針支撐所述校準件; 利用所述傳輸裝置將所述校準件傳出所述工藝腔室,并利用所述校準裝置檢測相對于所述預設位置所述校準件在預設方向上的偏移量;所述偏移量基于所述頂針在所述開孔的錐形側壁作用下,帶動所述校準件形成; 基于所述偏移量對當前的工位位置進行校準,得到校準后的工位位置。
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