盛合晶微半導(dǎo)體(江陰)有限公司黃晗獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉盛合晶微半導(dǎo)體(江陰)有限公司申請的專利晶圓級封裝結(jié)構(gòu)及制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN113921498B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202010653364.5,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01L23/538;該發(fā)明授權(quán)晶圓級封裝結(jié)構(gòu)及制備方法是由黃晗;林正忠;吳政達(dá);陳彥亨設(shè)計研發(fā)完成,并于2020-07-08向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本晶圓級封裝結(jié)構(gòu)及制備方法在說明書摘要公布了:本發(fā)明提供一種晶圓級封裝結(jié)構(gòu)及制備方法,晶圓級封裝結(jié)構(gòu)包括具有TSV的晶圓、第一重新布線層、第二重新布線層、鍵合焊盤、芯片、保護層及封裝層。其中,通過具有TSV的晶圓以及位于晶圓相對兩面的第一重新布線層及第二重新布線層,可形成三維方向堆疊密度大、外形尺寸小的晶圓級封裝結(jié)構(gòu),且可降低單一RDL的制造難度,以降低工藝復(fù)雜度及生產(chǎn)成本;通過TSV進行互連,可使得具有TSV的晶圓上下面良好導(dǎo)通,從而可大大提高芯片的速度并降低功耗,以形成具有較好的電熱性能和高效率傳輸性能的晶圓級封裝結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明授權(quán)晶圓級封裝結(jié)構(gòu)及制備方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種晶圓級封裝結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,包括以下步驟: 提供晶圓,所述晶圓包括相對的第一面及第二面,且所述晶圓包括若干TSV; 形成第一重新布線層,所述第一重新布線層覆蓋所述晶圓的第一面,且與所述TSV的第一端電連接; 提供支撐基底,通過分離層將所述第一重新布線層與所述支撐基底鍵合,所述分離層包括LTHC光熱轉(zhuǎn)換層; 減薄所述晶圓,以顯露所述TSV的第二端; 形成第二重新布線層,所述第二重新布線層覆蓋所述晶圓的第二面,且與所述TSV的第二端電連接; 形成鍵合焊盤,所述鍵合焊盤位于所述第二重新布線層上,且與所述第二重新布線層電連接; 提供芯片,所述芯片位于所述第二重新布線層上,且所述芯片通過芯片焊盤與所述鍵合焊盤電連接; 形成保護層,所述保護層位于所述芯片與所述第二重新布線層之間,且填充所述芯片與所述第二重新布線層之間的間隙; 形成封裝層,所述封裝層位于所述第二重新布線層上,且覆蓋所述芯片及第二重新布線層; 去除所述分離層及支撐基底,以顯露所述第一重新布線層。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人盛合晶微半導(dǎo)體(江陰)有限公司,其通訊地址為:214437 江蘇省無錫市江陰市長山大道78號(經(jīng)營場所江陰市東盛西路9號);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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