東京毅力科創株式會社阪上博充獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東京毅力科創株式會社申請的專利基片搬運裝置、基片處理系統和基片處理方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114664692B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202111524734.6,技術領域涉及:H01L21/67;該發明授權基片搬運裝置、基片處理系統和基片處理方法是由阪上博充;兒玉俊昭設計研發完成,并于2021-12-14向國家知識產權局提交的專利申請。
本基片搬運裝置、基片處理系統和基片處理方法在說明書摘要公布了:本發明提供基片搬運裝置、基片處理系統和基片處理方法,在減壓氣氛下搬運基片的基片搬運裝置中,能夠始終監視基片的位置。本發明的基片搬運裝置在減壓氣氛下對基片處理裝置搬運基片,包括:基片保持部,其用于保持所述基片;和基片測量部,其被設置于所述基片保持部,對所述基片相對于該基片保持部的位置進行測量。
本發明授權基片搬運裝置、基片處理系統和基片處理方法在權利要求書中公布了:1.一種使用基片處理系統對基片進行處理的基片處理方法, 所述基片處理系統包括: 在減壓氣氛下對所述基片進行處理的基片處理裝置;和 在減壓氣氛下對所述基片處理裝置搬運所述基片的基片搬運裝置, 在所述基片處理方法中,在利用所述基片搬運裝置搬運所述基片時,利用基片保持部保持所述基片,使用設置于所述基片保持部的基片測量部測量所述基片相對于該基片保持部的位置, 在利用所述基片保持部接收所述基片時,在所述基片保持部與所述基片隔開間隔的狀態下,一邊利用所述基片測量部測量所述基片的位置,一邊使所述基片保持部在水平方向和鉛垂方向上移動來使該基片保持部與所述基片接觸, 基于所述基片保持部的水平方向速度和鉛垂方向速度,計算所述基片保持部的初始位置與接觸位置之間的鉛垂方向距離, 對計算出的所述鉛垂方向距離與預先求出的正常時的鉛垂方向距離進行比較,檢測所述基片保持部的位移。
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