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龍圖騰網獲悉富士膠片株式會社申請的專利非浸透性基材用預處理液、油墨組、圖像記錄用基材、圖像記錄用基材的制造方法、圖像記錄物及圖像記錄方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115298038B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180021026.2，技術領域涉及：B41M5/00；該發明授權非浸透性基材用預處理液、油墨組、圖像記錄用基材、圖像記錄用基材的制造方法、圖像記錄物及圖像記錄方法是由綱史子;仮屋俊博;鈴木昭太設計研發完成，并于2021-02-18向國家知識產權局提交的專利申請。

本非浸透性基材用預處理液、油墨組、圖像記錄用基材、圖像記錄用基材的制造方法、圖像記錄物及圖像記錄方法在說明書摘要公布了：本發明提供一種能夠進一步擴大點的預處理液及其應用。一種非浸透性基材用預處理液及其應用，所述非浸透性基材用預處理液含有陰離子性樹脂和水性介質，陰離子性樹脂的ClogP值為1.40以上，陰離子性樹脂中的源自具有碳原子數2以上的鏈狀烷基的甲基丙烯酸烷基酯的結構單元的含量相對于陰離子性樹脂的總質量小于5質量％。

本發明授權非浸透性基材用預處理液、油墨組、圖像記錄用基材、圖像記錄用基材的制造方法、圖像記錄物及圖像記錄方法在權利要求書中公布了：1.一種非浸透性基材用預處理液，其含有陰離子性樹脂和水性介質， 所述陰離子性樹脂的ClogP值為1.40以上， 所述陰離子性樹脂中的源自具有碳原子數2以上的鏈狀烷基的甲基丙烯酸烷基酯的結構單元的含量相對于所述陰離子性樹脂的總質量小于5質量％， 所述陰離子性樹脂含有源自含陰離子性基團的單體的結構單元， 所述含陰離子性基團的單體的ClogP值為-4.00以上， 所述陰離子性樹脂含有選自由下述式1所示的結構單元及下述式2所示的結構單元組成的組中的至少1種結構單元作為所述源自含陰離子性基團的單體的結構單元， 所述源自含陰離子性基團的單體的結構單元的含量相對于所述陰離子性樹脂的總質量為1質量％～15質量％， 所述陰離子性樹脂含有源自含氫鍵性基團的單體的結構單元， 所述含氫鍵性基團的單體的ClogP值為0.20以上， 所述源自含氫鍵性基團的單體的結構單元為選自由下述式3所示的結構單元及下述式4所示的結構單元組成的組中的至少1種， 所述源自含氫鍵性基團的單體的結構單元的含量相對于所述陰離子性樹脂的總質量為5質量％～50質量％， 式1及式2中，R1分別獨立地表示氫原子或甲基，L1分別獨立地表示碳原子數1～10的亞烷基或單鍵，M分別獨立地表示氫原子或陽離子， 式3及式4中，R2分別獨立地表示氫原子或碳原子數1～4的烷基， 式3中， A2表示-NH-， L2表示碳原子數1～6的亞烷基或單鍵， Y2表示碳原子數1～6的烷基、-OH、-OR3、-NH2、-NR3H、-NR3R4或-C＝OR3， 式4中， L3表示選自由碳原子數1～6的亞烷基、-O-、及-C＝O-組成的第2組中的1種2價基團、或將選自所述第2組中的2種以上組合而成的2價基團， Y3表示鹵原子、-OH、-NH2、-NR3H或-C＝OR3， R3及R4分別獨立地表示碳原子數1～6的烷基。

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