新陽硅密(上海)半導體技術有限公司史蒂文·賀·汪獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉新陽硅密(上海)半導體技術有限公司申請的專利一種單片旋轉清洗設備實時自檢方法、周期自檢方法及單片旋轉清洗設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113948413B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111178794.7，技術領域涉及：H01L21/66；該發明授權一種單片旋轉清洗設備實時自檢方法、周期自檢方法及單片旋轉清洗設備是由史蒂文·賀·汪;劉立安;王亦天;吳儀設計研發完成，并于2021-10-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種單片旋轉清洗設備實時自檢方法、周期自檢方法及單片旋轉清洗設備在說明書摘要公布了：本發明公開了一種單片旋轉清洗設備實時自檢方法、周期自檢方法及單片旋轉清洗設備，單片旋轉清洗設備用于基片的清洗并能夠進行實時自檢和周期自檢，包括機械夾具、旋轉機構、光學圖像傳感器，所述旋轉機構上有旋轉載臺，還包括分析機構，光學圖像傳感器可以觀察基片在旋轉過程中的邊緣跳動情況，分析機構可以通過分析跳動值來確定設備是否產生故障。還包括標定基片，光學圖像光感器可以觀察標定基片旋轉過程中的圖像情況，分析機構可以通過分析所述圖像來確定設備是否產生故障。該單片旋轉清洗設備實時自檢方法、周期自檢方法，可以避免意外情況的發生，及時發現旋轉機構產生的機械偏差，有利于提升單片旋轉清洗工藝流程的安全性和穩定性。
本發明授權一種單片旋轉清洗設備實時自檢方法、周期自檢方法及單片旋轉清洗設備在權利要求書中公布了：1.一種單片旋轉清洗設備實時自檢方法，其特征在于，包括以下步驟： S10：預設機械夾具的運動軌跡并校準，使機械夾具能夠將基片放置在清洗設備內的旋轉載臺上，并保證基片的中心線與旋轉載臺的旋轉中心線重合； S20：通過所述機械夾具將待清洗的基片放置在旋轉載臺上，旋轉載臺以檢測速率進行旋轉； S30：通過光學圖像傳感器觀察旋轉過程中基片邊緣的圖像，并記錄基片邊緣的跳動值Di，所謂跳動值Di是指：當基片的中心線與旋轉載臺的旋轉中心線不重合時，旋轉載臺在旋轉過程中，基片分別位于旋轉載臺最左邊和最右邊時，基片邊緣之間的最大距離值即為跳動值Di； S40：將基片邊緣的跳動值Di與預設值D0進行比較，跳動值Di大于預設值D0時，旋轉載臺停止運行，清洗設備發出故障信號，跳動值Di小于預設值D0時，旋轉載臺以預設的清洗速率旋轉并正常啟動清洗工作,該基片清洗完成后更換新的基片并重復S20-S40步驟。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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