ASML荷蘭有限公司P·W·斯摩奧倫堡獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉ASML荷蘭有限公司申請的專利用于高效的高次諧波產生的方法和設備獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114631055B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202080076314.3，技術領域涉及：G02F1/35；該發(fā)明授權用于高效的高次諧波產生的方法和設備是由P·W·斯摩奧倫堡設計研發(fā)完成，并于2020-10-15向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于高效的高次諧波產生的方法和設備在說明書摘要公布了：披露了一種產生高次諧波輻射的高次諧波輻射源和相關聯(lián)的方法。所述高次諧波輻射源被配置成通過利用輻射的預脈沖照射所述氣體介質來調節(jié)所述氣體介質，由此產生包括預脈沖等離子體分布的等離子體；以及利用輻射的主脈沖來照射所述氣體介質以產生所述高次諧波輻射。所述調節(jié)步驟使得包括預脈沖等離子體分布的所述等離子體用于配置所述主脈沖的波前以改善以下各項中的一種或兩者：所述高次諧波產生過程的效率，和所述高次諧波輻射的束品質。所述高次諧波輻射源還可以包括束整形裝置，所述束整形裝置被配置成在所述調節(jié)之前對所述定制化預脈沖進行整形。
本發(fā)明授權用于高效的高次諧波產生的方法和設備在權利要求書中公布了：1.一種高次諧波輻射源，包括氣體介質并且被配置成： 實施利用輻射的主脈沖來照射所述氣體介質以產生高次諧波輻射的高次諧波產生步驟； 在所述高次諧波產生步驟中的輻射的所述主脈沖到達之前，實施利用輻射的預脈沖來照射所述氣體介質以產生包括預脈沖等離子體分布的等離子體的調節(jié)步驟，通過有意地預電離所述氣體介質的某一部分使得產生預電離的相對應的空間分布或圖案以抵消由所述主脈沖經受的等離子體散焦效應而進行所述調節(jié)步驟， 其中輻射的所述預脈沖在所述調節(jié)步驟中被用來調節(jié)所述氣體介質。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發(fā)布本報告當日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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