深圳邁塔蘭斯科技有限公司譚鳳澤獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉深圳邁塔蘭斯科技有限公司申請的專利超透鏡的設(shè)計方法、超透鏡及加工工藝獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN115421295B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-08發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202211116235.8,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G02B27/00;該發(fā)明授權(quán)超透鏡的設(shè)計方法、超透鏡及加工工藝是由譚鳳澤;郝成龍;朱瑞;朱健設(shè)計研發(fā)完成,并于2022-09-14向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本超透鏡的設(shè)計方法、超透鏡及加工工藝在說明書摘要公布了:本申請實施例提供了一種超透鏡的設(shè)計方法、超透鏡及加工工藝,屬于超表面的技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括:在超透鏡表面具有納米結(jié)構(gòu)的一側(cè)沉積材料層,使材料層覆蓋以下表面中的任一或兩者:納米結(jié)構(gòu)的至少部分表面;超透鏡的基底靠近納米結(jié)構(gòu)一側(cè)的表面;其中,納米結(jié)構(gòu)、納米結(jié)構(gòu)一側(cè)的基底和材料層構(gòu)成納米結(jié)構(gòu)單元;納米結(jié)構(gòu)單元至少滿足: 為編號為i的納米結(jié)構(gòu)單元的相位;neff?i為納米結(jié)構(gòu)單元的有效折射率;ω為入射光的角頻率;n為材料層的折射率;h為納米結(jié)構(gòu)單元中材料層沿所述納米結(jié)構(gòu)的延伸方向的最下端到最上端的距離。該設(shè)計方法優(yōu)化過程簡化,加工工藝難度低,易于量產(chǎn)。
本發(fā)明授權(quán)超透鏡的設(shè)計方法、超透鏡及加工工藝在權(quán)利要求書中公布了:1.一種超透鏡的設(shè)計方法,其特征在于,所述方法包括: 在超透鏡表面具有納米結(jié)構(gòu)的一側(cè)沉積材料層,使所述材料層覆蓋以下表面中的任一或兩者: 所述納米結(jié)構(gòu)的至少部分表面;以及, 超透鏡的基底靠近所述納米結(jié)構(gòu)一側(cè)的表面; 其中,所述納米結(jié)構(gòu)、所述納米結(jié)構(gòu)一側(cè)的基底和所述材料層構(gòu)成納米結(jié)構(gòu)單元; 所述納米結(jié)構(gòu)單元至少滿足: ; 其中,為所述超透鏡中納米結(jié)構(gòu)單元的編號;為編號為i的納米結(jié)構(gòu)單元的相位;neff-i為所述納米結(jié)構(gòu)單元的有效折射率;為入射光的角頻率;為光速;為所述材料層的折射率;h為納米結(jié)構(gòu)單元中材料層沿所述納米結(jié)構(gòu)的延伸方向的最下端到最上端的距離。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人深圳邁塔蘭斯科技有限公司,其通訊地址為:518101 廣東省深圳市寶安區(qū)新安街道上合社區(qū)33區(qū)大寶路83號美生慧谷科技園秋谷8棟6樓;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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