細美事有限公司樸正薰獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉細美事有限公司申請的專利基板處理設備及基板處理方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114999882B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210189062.6,技術領域涉及:H01J37/32;該發明授權基板處理設備及基板處理方法是由樸正薰;金潤相;全珉星;趙順天;崔圣慜;洪鎮熙設計研發完成,并于2022-02-28向國家知識產權局提交的專利申請。
本基板處理設備及基板處理方法在說明書摘要公布了:本發明涉及基板處理設備及基板處理方法。本發明構思提供一種基板處理設備。所述基板處理設備包含:具有處理空間的腔室;置放于所述處理空間內且支撐基板的支撐單元;及用于自供應至所述處理空間的工藝氣體產生等離子的等離子產生單元,且其中所述等離子產生單元包含:第一電極及面向所述第一電極的第二電極,所述第二電極由能夠傳輸電磁波的材料制成。
本發明授權基板處理設備及基板處理方法在權利要求書中公布了:1.一種基板處理設備,所述基板處理設備包含: 腔室,所述腔室具有處理空間; 支撐單元,所述支撐單元置放于所述處理空間內且支撐基板;及 等離子產生單元,所述等離子產生單元用于自供應至所述處理空間的工藝氣體產生等離子; 其中,所述等離子產生單元包含: 第一電極;及 第二電極,所述第二電極面向所述第一電極,所述第二電極由能夠傳輸電磁波的材料制成; 其中,所述第二電極設置在所述腔室的頂壁處,用于加熱所述基板的加熱單元設置在所述腔室的所述頂壁上方,且所述頂壁由能夠傳輸電磁波的材料制成; 所述第二電極設置為具有用于將反應氣體供應至置放在所述支撐單元上的所述基板上的通孔的噴頭類型。
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