東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社松田梨沙子獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利基板處理方法、氣流評(píng)價(jià)用基板以及基板處理裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN113284785B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202110179854.0,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01J37/32;該發(fā)明授權(quán)基板處理方法、氣流評(píng)價(jià)用基板以及基板處理裝置是由松田梨沙子;廣瀬潤(rùn)設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2021-02-09向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本基板處理方法、氣流評(píng)價(jià)用基板以及基板處理裝置在說(shuō)明書(shū)摘要公布了:本發(fā)明提供一種基板處理方法、氣流評(píng)價(jià)用基板以及基板處理裝置,能夠適當(dāng)?shù)販y(cè)定基板的表面的氣體的流動(dòng)?;逄幚矸椒òㄒ韵鹿ば颍汗ば騛,將在表面具有多個(gè)流量傳感器的基板載置到設(shè)置于腔室的內(nèi)部的載置臺(tái);工序b,向所述腔室的內(nèi)部供給處理氣體;以及工序c,使用所述多個(gè)流量傳感器來(lái)測(cè)定所述基板的表面的所述處理氣體的流動(dòng)的大小和方向。基板處理裝置具備控制部以及具有氣體供給口和氣體排出口的腔室。
本發(fā)明授權(quán)基板處理方法、氣流評(píng)價(jià)用基板以及基板處理裝置在權(quán)利要求書(shū)中公布了:1.一種基板處理方法:包括以下工序: 工序a,將表面具有多個(gè)流量傳感器的基板載置到設(shè)置于腔室的內(nèi)部的載置臺(tái); 工序b,向所述腔室的內(nèi)部供給處理氣體; 工序c,使用所述多個(gè)流量傳感器來(lái)測(cè)定所述基板的表面的所述處理氣體的流動(dòng)的大小和方向; 工序d,對(duì)產(chǎn)品用基板進(jìn)行處理;以及 工序e,進(jìn)行所述工序a~所述工序c,評(píng)價(jià)所述處理氣體的流動(dòng)的大小和方向, 其中,所述工序e包括以下工序: 工序e1,在所述工序d之前進(jìn)行所述工序a~所述工序c,測(cè)定所述處理氣體的流動(dòng)的大小和方向的初始值; 工序e2,在所述工序d之后進(jìn)行所述工序a~所述工序c;以及 工序e3,將通過(guò)所述工序e1測(cè)定出的初始值與所述工序e2的測(cè)定結(jié)果進(jìn)行比較。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社,其通訊地址為:日本東京都;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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