上海微電子裝備(集團)股份有限公司田翠俠獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉上海微電子裝備(集團)股份有限公司申請的專利一種自動調焦裝置、曝光裝置、光刻裝置及曝光方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114690581B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202011632381.7,技術領域涉及:G03F7/20;該發明授權一種自動調焦裝置、曝光裝置、光刻裝置及曝光方法是由田翠俠;夏海;張世錦;沈恬設計研發完成,并于2020-12-31向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種自動調焦裝置、曝光裝置、光刻裝置及曝光方法在說明書摘要公布了:本發明提供了一種自動調焦裝置、曝光裝置、光刻裝置及曝光方法,自動調焦裝置包括運動單元、承片臺、位移傳感器檢測裝置和控制系統;承片臺設置于運動單元上,承片臺被配置為承載基底;運動單元被配置為帶動承片臺在垂直方向上做上下升降運動、以及沿承片臺軸向做旋轉運動;位移傳感器檢測裝置設置于承片臺上的基底的下方,其被配置為采集基底的翹曲量;控制系統被配置為根據基底的翹曲量控制運動單元帶動承片臺在垂直方向上做上下升降運動,以對曝光過程中的基底進行自動調焦。本發明提供的自動調焦裝置可以使大翹曲片的曝光面在曝光過程中與投影物鏡焦面盡可能保持重合,達到最佳的曝光性能。
本發明授權一種自動調焦裝置、曝光裝置、光刻裝置及曝光方法在權利要求書中公布了:1.一種自動調焦裝置,用于對曝光過程中的基底進行自動調焦,其特征在于,包括運動單元、承片臺、位移傳感器檢測裝置和控制系統; 所述承片臺設置于所述運動單元上,所述承片臺被配置為承載所述基底; 所述運動單元被配置為帶動所述承片臺在垂直方向上做上下升降運動、以及沿所述承片臺軸向做旋轉運動; 所述位移傳感器檢測裝置設置于所述承片臺上的基底的下方,其被配置為采集所述基底的翹曲量; 所述控制系統被配置為根據所述基底的翹曲量控制所述運動單元帶動所述承片臺在垂直方向上做上下升降運動,以對曝光過程中的所述基底進行自動調焦; 其中,所述位移傳感器檢測裝置被配置為按照設定的采集頻率測量所述基底在旋轉過程中各采集點的翹曲量; 所述控制系統被配置為根據所述各采集點在所述基底上的位置坐標及各采集點對應的翹曲量擬合生成所述基底的位置-翹曲量曲線,并根據所述位置-翹曲量曲線、所述基底的曝光位置獲取所述曝光位置對應的翹曲量,并得到曝光位置區域的翹曲變化量,將所述翹曲變化量插值到運動單元的設定點生成器中,由軌跡規劃策略,生成運動單元每一個運動位置的設定點輸入,以控制所述承片臺在垂直方向上做上下升降運動,以對曝光過程中的所述基底進行自動調焦; 并且,所述運動單元還包括PID控制器和測量系統, 所述測量系統用于實時測量承片臺在垂直方向上的實際上升或下降距離,并將所述實際上升或下降距離輸入至PID控制器的輸入端; 所述PID控制器用于根據反饋的所述實際上升或下降距離以及加速度軌跡對所述運動單元的設定點輸入進行實時調整;其中,所述加速度軌跡根據所述設定點生成器規劃得到。
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