杭州電子科技大學劉艷獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉杭州電子科技大學申請的專利一種GaN HEMT直流I-V溫度模型建立方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114741836B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210137378.0,技術領域涉及:G06F30/20;該發明授權一種GaN HEMT直流I-V溫度模型建立方法是由劉艷;黃昌洋;程知群;王濤;陳思敏設計研發完成,并于2022-02-15向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種GaN HEMT直流I-V溫度模型建立方法在說明書摘要公布了:本發明涉及一種基于全局敏感參數的GaNHEMT直流I?V溫度模型建立方法,首先選定一個GaNHEMT直流I?V常溫模型,通過非線性擬合確定每個溫度下的擬合參數,然后計算每個參數的全局敏感參數并選擇相對敏感的參數,然后建立敏感參數與溫度之間的關系,最后替換GaNHEMT直流I?V常溫模型中的常量,以建立GaNHEMT直流I?V溫度模型。通過該方法,可以準確的判斷在溫度模型中哪些參數受溫度影響較大,通過使用多項式構建這些參數與溫度之間的關系,然后代入直流I?V常溫模型,由此建立高精度的GaNHEMT直流I?V溫度模型。
本發明授權一種GaN HEMT直流I-V溫度模型建立方法在權利要求書中公布了:1.一種GaNHEMT直流I-V溫度模型建立方法,其特征在于,包括: 建立初始GaNHEMT直流I-V常溫模型; 獲取所述初始GaNHEMT直流I-V常溫模型在多個溫度下的擬合參數值; 計算每個所述擬合參數的全局溫度敏感參數值; 選擇待溫度化的參數,并確定為溫度敏感參數; 建立所述溫度敏感參數與溫度之間的關系方程,并分別進行非線性擬合; 將所述溫度敏感參數與溫度之間的關系方程代入所述初始GaNHEMT直流I-V常溫模型,得到優化后GaNHEMT直流I-V溫度模型; 其中,所述初始GaNHEMT直流I-V常溫模型為: 其中,a1、n為經驗參數,Vt0為閾值電壓,b0是決定Ids_output達到飽和時的電壓調制參數,用來表征陷阱效應; 在所述計算每個所述擬合參數的全局溫度敏感參數值的步驟中,所述溫度敏感參數定義為: 其中,a為某個所述擬合參數的擬合結果,Δa為所述擬合參數的變化量,I為漏源電壓,為測試數據中柵源電壓Vgs的樣本點數,為測試數據中漏源電壓Vds的樣本點數,為溫度T的樣本點數; 在所述選擇待溫度化的參數,并確定為溫度敏感參數步驟中,確定的所述溫度敏感參數包括a1、Vt0和n; 所述溫度敏感參數與溫度之間的關系方程包括: 所述優化后GaNHEMT直流I-V溫度模型為:
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