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龍圖騰網(wǎng)獲悉東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利基片處理裝置和基片處理方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN112908890B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202011327053.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)基片處理裝置和基片處理方法是由井上大誠;櫻井宏紀(jì);中澤貴士設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-11-24向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本基片處理裝置和基片處理方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明的目的在于提供高精度地蝕刻基片的基片處理裝置和基片處理方法。實(shí)施方式的基片處理裝置包括溫度檢測(cè)部、計(jì)算部和執(zhí)行部。溫度檢測(cè)部檢測(cè)被供給了處理液的基片的溫度。計(jì)算部使用給定的計(jì)算式計(jì)算基于由溫度檢測(cè)部檢測(cè)到的溫度的基片的蝕刻量。執(zhí)行部基于蝕刻量執(zhí)行用處理液進(jìn)行的基片的蝕刻處理。

本發(fā)明授權(quán)基片處理裝置和基片處理方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基片處理裝置，其特征在于，包括： 溫度檢測(cè)部，其在處理液被供給到基片時(shí)，檢測(cè)所述基片的溫度； 計(jì)算部，其使用所述溫度和蝕刻處理中的處理時(shí)間的指數(shù)函數(shù)的式子D＝a×expb×Tave×t1－t0，計(jì)算基于由所述溫度檢測(cè)部檢測(cè)到的所述溫度的所述基片的蝕刻量，在所述蝕刻量小于規(guī)定量的情況下，繼續(xù)計(jì)算所述蝕刻量，其中，D是蝕刻量，Tave是達(dá)到了目標(biāo)溫度以后的時(shí)間平均基片溫度，a和b是指數(shù)近似擬合值，t1是處理液的供給時(shí)間，t0是達(dá)到了在基片能夠開始蝕刻的目標(biāo)溫度的時(shí)間；和 執(zhí)行部，其基于所述蝕刻量執(zhí)行用所述處理液進(jìn)行的所述基片的蝕刻處理，在所述蝕刻量成為所述規(guī)定量時(shí)，結(jié)束所述處理液的供給。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。