深圳市漢嵙新材料技術有限公司蔡比亞獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉深圳市漢嵙新材料技術有限公司申請的專利高反射率光學膜及背光模組獲國家實用新型專利權，本實用新型專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN223244844U 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的實用新型授權公告中獲悉：該實用新型的專利申請號/專利號為：202521449678.8，技術領域涉及：G02B5/08；該實用新型高反射率光學膜及背光模組是由蔡比亞;王榮福;朱海峰;袁昌理設計研發完成，并于2025-07-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本高反射率光學膜及背光模組在說明書摘要公布了：本實用新型涉及一種高反射率光學膜及背光模組。上述高反射率光學膜包括層疊設置的雙向拉伸聚丙烯層以及銀層，雙向拉伸聚丙烯層中摻雜有無機填料顆粒，粒徑為20nm~400nm，雙向拉伸聚丙烯層中分布有微孔，孔徑為0.1μm~5μm。利用雙向拉伸聚丙烯的高反射率，并利用無機填料顆粒對光線進行散射，利用微孔實現漫反射的效果，將大角度入射光轉化為朝向導光板的反射光，提高光線利用率。銀層的反射效果優于雙向拉伸聚丙烯層，但銀層對于入射光的吸收率為2%~5%，而雙向拉伸聚丙烯層的吸收接近于零，通過將雙向拉伸聚丙烯層與銀層結合，雙向拉伸聚丙烯層反射大部分光線的同時減少光吸收，銀層進一步將逃逸光線進行高效反射。
本實用新型高反射率光學膜及背光模組在權利要求書中公布了：1.一種高反射率光學膜，其特征在于，包括層疊設置的雙向拉伸聚丙烯層以及銀層，所述雙向拉伸聚丙烯層中摻雜有無機填料顆粒，所述無機填料顆粒的粒徑為20nm~400nm，所述雙向拉伸聚丙烯層中分布有微孔，所述微孔的孔徑為0.1μm~5μm。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人深圳市漢嵙新材料技術有限公司，其通訊地址為：518000 廣東省深圳市寶安區燕羅街道燕川社區燕山大道66號廠房101、201；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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