哈爾濱新光光電科技股份有限公司張健獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉哈爾濱新光光電科技股份有限公司申請的專利一種大視場透射式高能激光發射系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN111190282B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201911395824.2，技術領域涉及：G02B26/10；該發明授權一種大視場透射式高能激光發射系統是由張健;張全;康為民設計研發完成，并于2019-12-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種大視場透射式高能激光發射系統在說明書摘要公布了：本發明為了解決現有技術的透射式系統視場小、不利于對目標的探測與搜索、且增加了系統口徑的缺陷，而提出一種大視場透射式高能激光發射系統，包括：共口徑望遠系統、擺鏡、合束鏡以及接收鏡頭；激光經過合束鏡的透射作用和擺鏡的反射作用后，通過共口徑望遠系統進行發射；可見光經過共口徑望遠系統后通過擺鏡和合束鏡的反射作用被接收鏡頭接收。本發明適用于高能激光發射系統的小型化設計。
本發明授權一種大視場透射式高能激光發射系統在權利要求書中公布了：1.一種大視場透射式高能激光發射系統，其特征在于，包括： 共口徑望遠系統（10）、擺鏡（20）、合束鏡（30）以及接收鏡頭（40）；激光經過合束鏡（30）的透射作用和擺鏡（20）的反射作用后，通過共口徑望遠系統（10）進行發射；可見光經過共口徑望遠系統（10）后通過擺鏡（20）和合束鏡（30）的反射作用被接收鏡頭（40）接收，出瞳位置位于共口徑望遠系統（10）中最靠近外界的那一片光學元件，入瞳位置位于擺鏡（20）處，所述共口徑望遠系統（10）為二次成像設計，其實焦點匯聚于石英結構（15）中，所述擺鏡（20）通過二維擺動實現出射激光和探測視場的掃描功能。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人哈爾濱新光光電科技股份有限公司，其通訊地址為：150028 黑龍江省哈爾濱市松北區創新路1294號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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