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龍圖騰網(wǎng)獲悉南亞科技股份有限公司申請的專利基底處理裝置及離子注入器的調(diào)整方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114975051B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202111563376.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J37/317；該發(fā)明授權(quán)基底處理裝置及離子注入器的調(diào)整方法是由溫炫博;陳松輝設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-12-20向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本基底處理裝置及離子注入器的調(diào)整方法在說明書摘要公布了：本公開提供一種基底處理裝置及離子注入器的調(diào)整方法。該基底處理裝置包含一離子注入器以及一處理器，該處理器與該離子注入器相關(guān)聯(lián)。該離子注入器經(jīng)配置以使用一離子束將多個(gè)離子注入到一基底中。該處理器經(jīng)配置以監(jiān)控該離子束的一初始注入輪廓并調(diào)整該離子注入器，以依據(jù)該初始注入輪廓以及一預(yù)期注入輪廓提供具有該預(yù)期注入輪廓的該離子束。

本發(fā)明授權(quán)基底處理裝置及離子注入器的調(diào)整方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基底處理裝置，包括： 一離子注入器，使用一離子束將多個(gè)離子注入到一基底中；以及 一處理器，與該離子注入器相關(guān)聯(lián)并經(jīng)配置以監(jiān)控該離子束的一初始注入輪廓，且自動(dòng)調(diào)整該離子注入器以依據(jù)該初始注入輪廓以及一預(yù)期注入輪廓提供具有該預(yù)期注入輪廓的該離子束； 其中該離子注入器包括： 一離子源，由該處理器供電并用于離子化一氣體； 一源操縱器，萃取在該離子源內(nèi)的多個(gè)離子以形成該離子束； 一質(zhì)量分析器，提供一磁場以選擇用于注入的多個(gè)所述離子； 一光束操縱器，接受離開該質(zhì)量分析器的該離子束，并用于通過一磁場而操縱該離子束的一形狀；以及 一多極單元與上下桿，使用電力將預(yù)期的多個(gè)所述離子導(dǎo)向該基底； 其中該處理器通過調(diào)整施加到該離子源、該多極單元與該上下桿的一電位以及該質(zhì)量分析器與該光束操縱器的該磁場至少其中之一，而調(diào)整該離子注入器以產(chǎn)生該離子束； 其中該處理器依據(jù)由該離子注入器的一離子束檢測器、一光束分析器以及一入射角檢測器所測量的多個(gè)特性而得到該初始注入輪廓。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人南亞科技股份有限公司，其通訊地址為：中國臺灣新北市；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。