北京京東方技術開發有限公司;京東方科技集團股份有限公司梅文海獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉北京京東方技術開發有限公司;京東方科技集團股份有限公司申請的專利電子設備基板及其制造方法和電子設備獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114792764B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202110107096.1,技術領域涉及:H10K71/00;該發明授權電子設備基板及其制造方法和電子設備是由梅文海設計研發完成,并于2021-01-26向國家知識產權局提交的專利申請。
本電子設備基板及其制造方法和電子設備在說明書摘要公布了:本公開提供一種電子設備基板,所述電子設備基板包括襯底基板和形成在所述襯底基板上的量子點圖形層,其中,所述量子點圖形層包括至少一個量子點圖形,所述量子點圖形包括基體和分散在所述基體中的量子點,所述基體包括主基體部和形成在所述主基體部上的修復基體部,所述修復基體部的材料分子與所述主基體部的材料分子之間互相結合。本公開還提供一種電子設備、一種電子設備基板的制造方法。
本發明授權電子設備基板及其制造方法和電子設備在權利要求書中公布了:1.一種電子設備基板的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括: 提供襯底基板; 形成犧牲層; 形成光刻膠層; 對所述光刻膠層和所述犧牲層進行構圖工藝,以形成圖形開口,其中,所述圖形開口貫穿所述光刻膠層和所述犧牲層; 在所述圖形開口中形成初始量子點圖形層,所述初始量子點圖形層包括至少一個初始量子點圖形,所述量子點圖形包括主基體部和分散在所述主基體部中的量子點; 通過超聲振動去除所述犧牲層、以及形成在所述犧牲層上的材料層; 在所述初始量子點圖形層上涂敷修復材料液; 對涂敷有修復材料液的初始量子點圖形層進行加熱,使得所述修復材料液固化,并獲得最終量子點圖形層,所述最終量子點圖形包括由所述初始量子點圖形獲得的最終量子點圖形,所述最終量子點圖形包括基體和分散在所述基體中的量子點,所述基體包括主基體部和形成在所述主基體部上的、由所述修復材料液形成的修復基體部,所述修復基體部的材料分子與所述主基體部的材料分子之間互相結合。
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