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龍圖騰網獲悉福建鑫駿暉印刷包裝有限公司申請的專利一種輕質真空鐳射膜及生產工藝獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120287701B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510789525.6，技術領域涉及：B32B27/36；該發明授權一種輕質真空鐳射膜及生產工藝是由蘇文勇;王賓強;李炎坤設計研發完成，并于2025-06-13向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種輕質真空鐳射膜及生產工藝在說明書摘要公布了：本發明公開了一種輕質真空鐳射膜及生產工藝，涉及鐳射膜技術領域，包括基底層；本發明通過基底層、附著增強層、真空鍍金屬層、高透光耐磨層與抗紫外線層，來制成輕質真空鐳射膜，其中，納米纖維素與聚乳酸共混制成的基底層具備輕質與高抗拉強度，且抗紫外線層采用氟硅樹脂、聚氨酯樹脂與光致變色氟碳樹脂復合，可形成智能抗紫外線防護層，并提供自修改效果，而?基材層準備、附著增強層涂布、真空鍍層、熱壓復合、抗紫外線層涂覆與分切包裝工藝的設置，可進行輕質真空鐳射膜的高效制備，并且，在?基材層準備中通過凹版涂布設備所設的組合功能裝置，來滿足涂布液的高效曝氣混合以及多余涂布液的回收與滲入效果的加強。

本發明授權一種輕質真空鐳射膜及生產工藝在權利要求書中公布了：1.一種輕質真空鐳射膜，其特征在于：輕質真空鐳射膜組成至下而上包括：基底層（100）、附著增強層（200）、真空鍍金屬層（300）、高透光耐磨層（400）與抗紫外線層（500），所述附著增強層（200）涂覆于基底層（100）上表面，所述真空鍍金屬層（300）采用磁控濺射鍍于附著增強層（200）上表面，所述高透光耐磨層（400）熱壓于真空鍍金屬層（300）上表面，所述抗紫外線層（500）采用精密噴涂涂覆于高透光耐磨層（400）上表面； 所述基底層（100）采用納米纖維素與聚乳酸共混制成，厚度10-15μm； 所述附著增強層（200）?采用生物基聚乳酸與乙烯-醋酸乙烯酯共聚物的復合材料，厚度為2-4μm； 所述真空鍍金屬層（300）?采用銅-銀合金濺射鍍膜，厚度50-80nm，通過磁控濺射技術形成； 高透光耐磨層（400）?采用納米二氧化硅粒子與聚碳酸酯材料復合形成； 抗紫外線層（500）?：采用氟硅樹脂、聚氨酯樹脂與光致變色氟碳樹脂中的一種或多種復合，厚度為1-3μm。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人福建鑫駿暉印刷包裝有限公司，其通訊地址為：362400 福建省泉州市安溪縣龍門鎮興旺路3號廠房3幢、廠房4幢；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。