株式會社國際電氣佐藤武敏獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉株式會社國際電氣申請的專利基板處理裝置、半導體裝置的制造方法、基板處理方法和記錄介質獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115074699B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210113436.6,技術領域涉及:C23C16/455;該發明授權基板處理裝置、半導體裝置的制造方法、基板處理方法和記錄介質是由佐藤武敏;板谷秀治;三部誠設計研發完成,并于2022-01-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本基板處理裝置、半導體裝置的制造方法、基板處理方法和記錄介質在說明書摘要公布了:本發明提供基板處理裝置、半導體裝置的制造方法、基板處理方法和記錄介質。本發明的基板處理裝置具有:晶圓盒,其將多個基板在預定的排列方向上排列并保持;內管,其圍繞晶圓盒來設置,并在與基板的排列方向正交的方向上形成有進行排氣的排氣孔;混合部,其將在內管內的溫度下會相互反應的用于基板處理的多種氣體預先混合而生成混合氣體;和噴嘴,其與內管的內壁分離開設置,從沿著基板的排列方向形成的多個吐出孔向內管內吐出由混合部供給的混合氣體;吐出孔的吐出方向不是朝向晶圓盒而是朝向內管的內壁。
本發明授權基板處理裝置、半導體裝置的制造方法、基板處理方法和記錄介質在權利要求書中公布了:1.一種基板處理裝置,具有: 晶圓盒,其將多個基板在預定的排列方向上排列并保持, 內管,其圍繞晶圓盒來設置,并在與基板的排列方向正交的方向上形成有進行排氣的排氣孔, 多個混合部,其將在內管內的溫度下會相互反應且生成固態副產物的用于基板處理的多種氣體預先混合而生成混合氣體,和 多個噴嘴,其與所述內管的內壁分離開設置,將由所述多個混合部供給的混合氣體從沿著所述基板的所述排列方向形成的多個吐出孔分別向所述內管內吐出; 所述多個噴嘴設置成與將內管內的基板排列區域沿著基板的排列方向分割的多個分區對應, 所述多個吐出孔的所有吐出方向不是朝向所述晶圓盒而是朝向所述內管的內壁,且不與其他噴嘴沖突, 多個基板沿著上下方向排列, 與基板排列區域中最下方分區以外的分區對應而設置的噴嘴的吐出孔,經過與最下方分區對應而設置的噴嘴的上方空間,向著內管的內壁開口。
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