日內瓦大學;ID量子技術股份有限公司M·佩勒努獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉日內瓦大學;ID量子技術股份有限公司申請的專利使用多個并聯連接的超導檢測部件進行單光子檢測的設備和系統獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114096817B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202080034869.1,技術領域涉及:G01J5/20;該發明授權使用多個并聯連接的超導檢測部件進行單光子檢測的設備和系統是由M·佩勒努;F·巴絲瑞;M·卡洛設計研發完成,并于2020-06-16向國家知識產權局提交的專利申請。
本使用多個并聯連接的超導檢測部件進行單光子檢測的設備和系統在說明書摘要公布了:本發明涉及一種用于單光子檢測的設備,該設備包括至少兩個超導檢測部件1以及偏置電流源2、濾波器元件3和讀出電路4,其中每個超導檢測部件1形成適于吸收入射光子的檢測區域并且并聯連接,每個超導檢測部件1維持在低于其臨界溫度TC的溫度并被提供位于接近并低于其臨界電流IC的偏置電流IB,諸如以正常地維持在非電阻性超導狀態,并且適于在光子吸收時從所述非電阻性超導狀態過渡到電阻性狀態,這是由于超導檢測部件1內的電流密度增加到臨界電流IC以上,所述讀出電路4適于感測與超導檢測部件1到其電阻性狀態的所述過渡對應的電壓改變,諸如以允許為所述超導檢測部件1中的任何一個對入射光子的每次吸收產生事件信號。該設備的區別在于它還包括至少一個電流重新分配部件5,該電流重新分配部件5適于至少部分地將在由所述超導檢測部件1中的任何一個吸收入射光子之后產生的電流重新分配到所述電流重新分配設備5中,諸如以避免沒有吸收入射光子的超導檢測部件1中的任何一個遭受電流密度增加到其臨界電流IC以上。本發明還涉及一種包括至少兩個此類設備的用于單光子檢測的系統。
本發明授權使用多個并聯連接的超導檢測部件進行單光子檢測的設備和系統在權利要求書中公布了:1.一種用于單光子檢測的設備,所述設備包括至少兩個超導檢測部件1以及偏置電流源2、濾波器元件3和讀出電路4,其中每個超導檢測部件1形成適于吸收入射光子的檢測區域并且通過所述濾波器元件3作為中間體并聯連接到所述偏置電流源2和所述讀出電路4,每個超導檢測部件1被維持在低于其臨界溫度TC的溫度,所述偏置電流源2為每個超導檢測部件1提供位于接近并低于超導檢測部件1的臨界電流IC的偏置電流IB,以在通常情況下將每個超導檢測部件1維持在非電阻性超導狀態,每個超導檢測部件1適于在吸收入射光子的情況下從所述非電阻性超導狀態過渡到電阻性狀態,并且所述讀出電路4適于感測與超導檢測部件1過渡到其電阻性狀態對應的電壓改變,以允許為所述超導檢測部件1中的任何一個對入射光子的每次吸收產生事件信號,其特征在于所述設備還包括至少一個電流重新分配部件5,所述電流重新分配部件5適于至少部分地將在被所述超導檢測部件1中的任何一個吸收入射光子之后產生的電流重新分配到所述電流重新分配部件5中,以避免沒有吸收入射光子的超導檢測部件1中的任何一個遭受電流密度增加到其臨界電流IC以上。
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