中國科學院上海藥物研究所楊玉社獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中國科學院上海藥物研究所申請的專利兩性霉素B半合成衍生物及其制備方法和用途獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115536716B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-08發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110729385.5，技術領域涉及：C07H17/08；該發明授權兩性霉素B半合成衍生物及其制備方法和用途是由楊玉社;潛安然;鄭亞洲;馬慧君設計研發完成，并于2021-06-29向國家知識產權局提交的專利申請。
本兩性霉素B半合成衍生物及其制備方法和用途在說明書摘要公布了：本發明提供了兩性霉素B半合成衍生物及其制備方法和用途。具體地，本發明公開了結構如式V所示的化合物，以及水溶性鹽和復合物、藥物組合物，以及包含該衍生物的植物和機體治療產品和他們作為抗真菌抗生素的用途。本發明還公開了上述化合物的制備方法。
本發明授權兩性霉素B半合成衍生物及其制備方法和用途在權利要求書中公布了：1.一種如下式V所述的化合物，或其藥學上可接受的鹽： 其中， R1各自獨立地選自下組： -NR4-Lp-Ra、-NR4CH2nR5、-NHCH2CH2NH2、 其中，Ra選自下組：H、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、-NH2、6-10元芳基、5-10元雜芳基以及-COR3； L選自下組：NH、NHCO； R4各自獨立地選自下組：H、C1-C6烷基； R5選自下組：H、取代或未取代的C1-C6烷基； R6選自下組：H、OH、C1-C6烷基、5-12元雜環基； R2各自獨立地選自下組：H、 R3為NH2； p選自下組：0、1或2； n選自下組：0、1、2、3、4或5； 術語“取代”指基團上的一個或多個氫原子被羥基取代。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國科學院上海藥物研究所，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區張江祖沖之路555號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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