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五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)

一種用于發(fā)動機進排氣門的低應力抗結(jié)焦交替層疊薄膜及制備方法

本發(fā)明公開了一種用于發(fā)動機進排氣門的低應力抗結(jié)焦交替層疊薄膜及制備方法，包括從下到上依次設置在基底上的CrN薄膜、CrAlN薄膜、TiO2薄膜、CrN薄膜、CrAlN薄膜與TiO2薄膜。該結(jié)構(gòu)通過CrN、CrAlN和TiO2層的多次交替沉...

2025-10-18
一種含V形垂直裂紋熱障涂層、制備方法與制備裝置

本發(fā)明提供一種含V形垂直裂紋熱障涂層、制備方法與制備裝置，包括：大氣等離子噴涂單元、預熱單元、冷卻單元和固定單元；大氣等離子噴涂單元設有噴槍，預熱單元設有激光發(fā)射頭，冷卻單元設有液態(tài)二氧化碳噴射管；固定單元設有可移動的夾具，沿夾具移...

2025-10-18
Ta-C復合涂層及制備方法

本發(fā)明提供了一種Ta?C復合涂層及制備方法，所述復合涂層形成于高速鋼基體、不銹鋼基體或鑄鐵基體上，所述復合涂層包括依次層疊設置的過渡層和耐磨層；所述過渡層包括Me層、MeN層、Me(W)N層以及MeWN層；所述耐磨層包括WC層、WC/T...

2025-10-18
封嚴涂層及其制備方法

本申請?zhí)峁┮环N封嚴涂層及其制備方法，封嚴涂層包括：高溫合金基體，和在高溫合金基體上依次層疊設置的金屬粘結(jié)層和陶瓷層，其中，金屬粘結(jié)層在相對靠近所述陶瓷層一側(cè)的表面上包括至少一個刻蝕區(qū)，刻蝕區(qū)內(nèi)包含陶瓷顆粒。本申請?zhí)峁┑姆鈬劳繉泳邆?..

2025-10-18
一種高溫紅外隱身涂層材料及其制備方法和應用

本發(fā)明公開了一種高溫紅外隱身涂層材料及其制備方法和應用，涉及紅外隱身涂層技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明提供了具有粘結(jié)層、陶瓷層、鋁膜層和鉑金屬層的紅外隱身涂層材料，在制備過程鋁和氧化鋯反應使得在陶瓷層表面原位生成致密的氧化鋁，從而提高金屬鋁層與陶瓷...

2025-10-18
高電阻率與截止頻率的高熵軟磁薄膜制備方法及薄膜

本發(fā)明屬于軟磁高熵合金材料與磁控濺射技術(shù)領(lǐng)域，具體是涉及一種高電阻率與截止頻率的高熵軟磁薄膜制備方法及薄膜，包括制備高熵合金靶材和氧化鋅靶材；選擇高電阻率的非磁性材料作為基底；對靶材與基底進行清洗后采用高熵合金靶材和氧化鋅靶材進行雙靶位...

2025-10-18
一種加熱盤升降底座及薄膜沉積設備

本實用新型公開了一種加熱盤升降底座及薄膜沉積設備，加熱盤升降底座包括基座；調(diào)節(jié)塊，設于基座上，調(diào)節(jié)塊上側(cè)的四周設有多個第一調(diào)節(jié)孔；安裝座，設于調(diào)節(jié)塊上以用于安裝加熱盤；第一調(diào)節(jié)件，多個第一調(diào)節(jié)件分別設于安裝座的四周且與第一調(diào)節(jié)孔配...

2025-10-18
MOCVD鍍膜設備

本實用新型提供了一種MOCVD鍍膜設備，屬于半導體加工技術(shù)領(lǐng)域，解決了現(xiàn)有技術(shù)MOCVD鍍膜設備鍍膜質(zhì)量欠佳的問題。本實用新型包括殼體，殼體內(nèi)形成一反應腔，反應腔連通有進氣管，進氣管用于輸送前驅(qū)體；基臺，基臺設置于反應腔內(nèi)，基...

2025-10-18
一種改善Poly非晶硅膜邊緣毛邊的方法

本發(fā)明公開了一種改善Poly非晶硅膜邊緣毛邊的工藝結(jié)構(gòu)及方法，針對N型TOPCON電池背面POLY層制備中LPCVD工藝因進氣管硅烷顆粒堵塞導致硅片邊緣毛邊的問題，提供了無需硬件改造的解決方案。通過將沉積溫度從622℃降至615℃、沉積...

2025-10-18
進氣裝置及基板處理設備

本申請屬于半導體制造設備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種進氣裝置及基板處理設備，進氣裝置包括一個混合腔、多個輸氣管道和多個脈沖閥，混合腔與反應腔連接，混合腔包括多個進氣孔，輸氣管道的第一端連接一個進氣孔以使輸氣管道與混合腔連通，至少部分輸...

2025-10-18
一種模切刀鈍化液及其使用方法

本發(fā)明提供一種模切刀鈍化液及其使用方法，鈍化液由5%?10%鉬酸鹽、0.5%?2%苯并三氮唑、8%?15%氨基?環(huán)氧雙官能團改性硅油、3%?8%聚醚分散劑及溶劑組成。通過鉬酸鹽鈍化與唑類吸附的雙重緩蝕機制，在模切刀表面形成致密防護層， ...

2025-10-18
一種氧化物高阻隔鍍膜設備及其真空卷繞系統(tǒng)

本發(fā)明涉及鍍膜設備技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種氧化物高阻隔鍍膜設備及其真空卷繞系統(tǒng)，包括真空鍍膜箱，所述真空鍍膜箱的頂端一側(cè)固定連接有抽氣管，通過在真空鍍膜箱上固定抽氣管，抽氣管上安裝第一泵體、第二泵體、第三泵體，依次為初級旋片泵、...

2025-10-18
高硬度自修復寶藍色離子鍍層及其制備方法和應用

本申請涉及高硬度自修復寶藍色離子鍍層及其制備方法和應用，涉及材料表面處理技術(shù)領(lǐng)域，其包括所述鍍層包含金屬粘結(jié)底層、中間層、硬度層、自修復層、光學層和封閉層六部分，各層功能互補，底層至表層的硬度梯度遞增(底層<中間層<硬度層)，避免...

2025-10-18
鍍膜裝置及鍍膜方法

本公開涉及一種鍍膜裝置及鍍膜方法，其中，鍍膜裝置包括：真空室(1)，其腔體內(nèi)為真空環(huán)境；偏壓負載體(2)，設在所述真空室(1)內(nèi)，所述偏壓負載體(2)與所述真空室(1)相互絕緣；位置保持部件(3)，被配置為將工件的位置保持在所述...

2025-10-18
一種用于金屬薄膜的智能化高真空鍍膜機

本發(fā)明公開了一種用于金屬薄膜的智能化高真空鍍膜機，應用于金屬薄膜真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，其中殼體一、真空外殼、殼體二和滑移板，殼體一的內(nèi)部設置有蒸發(fā)車，殼體二的內(nèi)部設置有卷繞車，蒸發(fā)車和卷繞車均與滑移板為滑動連接，蒸發(fā)車上設置有蒸發(fā)組...

2025-10-18
一種高溫耐磨涂層刀具及其制備方法

本發(fā)明涉及涂層刀具技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種高溫耐磨涂層刀具及其制備方法，刀具包括基體和涂覆于所述基體上的高溫耐磨涂層；基體為WC基硬質(zhì)合金；涂層由內(nèi)向外包括WaAlbSicB2粘結(jié)層和TixAlySizB2功能層；其中TixAlySizB2...

2025-10-18
一種應用于振膜式石英壓力芯體的圖案化側(cè)電極沉積治具

本發(fā)明涉及壓力傳感器領(lǐng)域，具體涉及一種應用于振膜式石英壓力芯體的圖案化側(cè)電極沉積治具，包括：由兩形狀相同的金屬外殼、四定位銷和一金屬蓋板組成的治具本體，以及用于實現(xiàn)治具本體支撐限位的治具傾斜基座；所述的兩形狀相同的金屬外殼通過四個定位...

2025-10-18
一種適用于柔性膜連續(xù)鍍膜的防指紋藥水連續(xù)蒸鍍方法

一種適用于柔性膜連續(xù)鍍膜的防指紋藥水連續(xù)蒸鍍方法：真空鍍膜室內(nèi)，成卷的防指紋藥水帶(30)安在放卷輥(21)和收卷輥(22)上、并與驅(qū)動機構(gòu)的轉(zhuǎn)筒(10)嚙合，藥水帶上第一塊藥水存儲塊(32)位于阻蒸模塊(40)的鉬舟上；抽真空后，阻...

2025-10-18
低氣壓射流等離子體增強化學氣相沉淀設備及其生產(chǎn)方法

本發(fā)明公開了一種低氣壓射流等離子體增強化學氣相沉淀設備及其生產(chǎn)方法，涉及化學氣相沉積領(lǐng)域，包括：依次連接的等離子體發(fā)生器、裂解腔體、生長腔體和回收裝置，所述等離子體發(fā)生器、裂解腔體、生長腔體和回收裝置內(nèi)部形成依次連通的通道；所述生長腔...

2025-10-18
一種硅摻雜的二氧化鉿薄膜及其制備方法

本發(fā)明公開了一種硅摻雜的二氧化鉿薄膜及其制備方法，屬于薄膜材料制備領(lǐng)域。其制備：將稱取的粉末前驅(qū)體放于前驅(qū)體罐中；將單晶硅基板放于化學氣相沉積裝置中，抽真空并加熱；其中：原料罐的目標溫度為200?250℃，基板的目標溫度為810?11...

2025-10-18

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