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								      本實用新型涉及鍍膜設備技術領域，具體涉及一種濺射鍍膜真空室用防護裝置，包括真空室腔體，所述真空室腔體的一側固設有保護罩，所述保護罩與真空室腔體之間設有透光玻璃，所述透光玻璃嵌設在所述保護罩的內部，所述保護罩遠離所述真空室腔體的一側設有通孔，...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種利用共滲控制系統提高金屬滲鋅效果的方法，涉及金屬多元合金共滲防腐技術領域，滲鋅開始前，將工件尺寸、材質、滲層深度(按客戶要求的滲層深度，也可通過客戶要求的中性鹽霧時間折算)、鋅粉參數、助滲劑、滲灌轉速等參數按實際值輸入工控機...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及一種用于安裝卡盤和玻璃基板的裝配設備，包括殼體、輸送組件、第一除塵組件、第二除塵組件和裝配組件。殼體內形成有裝配腔室，輸送組件包括多個滾輪。第一除塵組件包括吸塵罩和磁鐵，吸塵罩罩設于滾輪的外圍，磁鐵設置于吸塵罩上，磁鐵和/或吸...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及納米薄膜的技術領域，具體公開了一種稀貴金屬合金納米薄膜的原子層沉積制備方法。其包括以下步驟：S1、沉積第一層稀貴金屬納米薄膜：采用原子層沉積(ALD)技術，將稀貴金屬反應源加熱后通過載氣脈沖引入反應腔室，再將共反應劑引入反應腔室，...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及一種高硬度模具鋼洗銑刀具用涂層及其制備，屬于銑刀涂層技術領域。本發明提供一種高硬度模具鋼洗銑刀具用涂層的制備方法，其步驟包括，將銑刀超聲清洗清洗后，去離子水漂洗并干燥，預熱，得到處理后的基材，接著采用多弧離子鍍對處理后的基材進行底...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種多功能寬密度等離子體放電方法，涉及等離子體技術領域，包括步驟：S1、系統設計與構建；S2、等離子體放電模式切換；S3、等離子體輔助化學氣相沉積；S4、等離子體輔助原子層沉積；S5、系統性能優化與驗證。該多功能寬密度等離子體放...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種氧化物固態電解質薄膜的磁控濺射制備工藝，涉及電解質制備領域，包括以下步驟：襯底預處理、動態溫度控制濺射、梯度多層結構沉積、原位退火處理與后處理。本發明通過多步驟優化提升氧化物固態電解質薄膜性能：襯底預處理提升清潔度與結合強度...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請提供了一種陶瓷基低頻吸波涂層及其制備方法和應用，其中，陶瓷基低頻吸波涂層的制備方法包括：對金屬基底進行倒角、去油、噴砂處理后，采用等離子噴涂工藝在所述金屬基底上制備粘結層；采用等離子噴涂工藝在所述粘結層上制備陶瓷層，再將鋁膜膠帶貼在所...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及氧化硅高阻隔膜真空鍍膜技術領域，具體公開了一種氧化硅高阻隔膜用真空鍍膜設備，包括基座，所述基座的頂部固定安裝有真空鍍膜箱，所述真空鍍膜箱的頂部固定安裝有加熱裝置，本發明通過疏導機構與定位機構的聯動設計，實現了氣流調控與動力傳導的協...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種熱鍍鋅帶鋼邊部粘渣處理裝置，涉及熱鍍鋅氣刀系統技術領域，包括：氣刀邊部擋板和粘渣處理裝置，氣刀邊部擋板設置有陶瓷輪，陶瓷輪用于與帶鋼接觸并保證帶鋼與氣刀邊部擋板的標定距離，陶瓷輪的下方設置有粘渣處理裝置安裝工位；粘渣處理...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及微納米粉末表面沉積包覆設備領域，提供了一種微納米粉末表面沉積包覆回轉窯爐，包括爐體及爐體回轉管和多孔分散板及擋板組成的隔倉、工作氣體系統和加料裝置，工作氣體系統包括若干流化包覆材料或氣態包覆前驅體材料進氣管、比例閥組，比例閥組...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明的實施例提供了一種鍍膜設備，包括：等離子體組件，包括：第一電極組件；第二電極組件，與第一電極組件的間隙形成沉積空間，物料位于沉積空間；熱絲組件，用于利用溫度場使反應物分解。本發明的技術方案中，同時采用等離子體增強化學氣相沉積和熱絲化學...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及微波等離子體技術領域，具體而言，涉及一種樣品臺組件及MPCVD裝置，所述樣品臺組件包括底座和鉬臺，還包括銅板，所述鉬臺套設在銅板上，所述銅板套設在底座上，所述銅板設置有凹槽，所述凹槽與底座形成通道，所述底座設置有冷卻介質入口和...
								
        
							
        
							
						
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								      一種鍍膜設備，包括爐管和一對舟腳電極。爐管包括鍍膜腔體，鍍膜腔體用以容置用于承載鍍膜工件的石墨舟。該對舟腳電極設置在鍍膜腔體中。每一個舟腳電極包括用于與石墨舟接觸的結合面。密封圈固定設置在結合面上且延伸成封閉的圈狀。當石墨舟的舟腳抵持在結合...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及一種高熵稀土鈮酸鹽涂層的制備方法，屬于陶瓷涂層材料技術領域。所述方法采用大氣等離子噴涂，先將NiCrCoAlY粉體噴涂到基體上制得粘結層，再將噴涂用的(La0.2Nd0.2Sm...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種圓鋼鍍鋅生產防腐蝕裝置，包括機架和移動架，所述機架上安裝有用于驅動移動架上下移動的驅動機構，移動架轉動安裝有兩對稱設置的安裝盤，移動架上安裝有旋轉驅動裝置一，旋轉驅動裝置一的輸出端與安裝盤傳動連接，安裝盤上設有若干限位槽...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種提純型蒸發鍍鋁裝置，其安裝在真空腔體上，包括：預熱機構，用于熱熔鋁材料以得到鋁液；引流管，其設置在所述預熱機構的出料口；升降機構，其與所述引流管傳動連接以帶動所述引流管上下移動，以關閉或開啟所述預熱機構的出料口；蒸發舟機...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種應用在塑膠上的黑色裝飾性膜層的制備方法，包括電鍍，清洗，烘烤，輝光清洗和物理氣相沉積過程步驟，其中，所述物理氣相沉積過程通過使用中頻磁控濺射方式在塑膠基材上沉積鉻鎢合金層，之后再通入乙炔反應氣體，并使用中頻磁控濺射方式使得乙...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明主要涉及金屬表面處理技術領域，具體是一種鍍錫銅絲的表面處理工藝，包括以下步驟，酸洗活化，采用磷酸?硫酸混合液，對銅絲進行酸洗活化，得到銅絲預制體；將銅絲預制體浸入硅烷偶聯劑溶液中，得到銅絲中間體；將銅絲中間體加熱后放入含有稀土La顆粒...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種CrAlTiWCoN高熵合金氮化物涂層及其制備方法，所述復合涂層包括依次形成于基體表面的過渡層底層CrAlTiW合金層、過渡層上層CrAlTiWN氮化物層、工作層CrAlTiWCoN，所述工作層CrAlTiWCoN包括如下元...
								
        
							
        
							
						
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