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五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術

一種等離子噴涂Mo/Y₂O₃復合涂層激光強化的方法

一種等離子噴涂Mo/Y₂O₃復合涂層激光強化的方法，包括以下步驟：(1)：將高純石墨棒料加工成模具坩堝；(2)：將完成工序(1)的模具坩堝放入超高溫真空電阻爐進行除氣；(3)：將完成工序(2)的待...

2025-09-10
一種熱扎帶鋼連續(xù)熱鍍鋅設備及其熱鍍鋅方法

本發(fā)明涉及熱鍍鋅技術領域，具體的說是一種熱扎帶鋼連續(xù)熱鍍鋅設備及其熱鍍鋅方法；包括機架、傳輸輥和鍍鋅機構(gòu)；傳輸輥位于帶鋼上下兩側(cè)，傳輸輥使得帶鋼彎曲后呈匚形傳輸；鍍鋅機構(gòu)位于分別位于帶鋼彎曲前和彎曲后的上方，對帶鋼進行熱鍍鋅處理；本發(fā)明的熱...

2025-09-10
一種焊帶的反向鍍錫裝置及反向鍍錫方法

本發(fā)明公開了一種焊帶的反向鍍錫裝置及反向鍍錫方法，該裝置包括異形錫爐、助焊劑筒和冷卻組件，異形錫爐的縱截面為“凹”字形，異形錫爐包含右腔體和左腔體，右腔體底部和左腔體底部連通，右腔體上有進出氣口，右腔體上表面有進線口，右腔體下表面有與進線口...

2025-09-10
一種光學鍍膜彩色網(wǎng)布及其制備方法

本發(fā)明涉及一種用于網(wǎng)布光學鍍膜制備方法，包括如下步驟：準備待加工的網(wǎng)布基材；依據(jù)鞋材實際生產(chǎn)所需將準好的網(wǎng)布基材裁剪出所需的形狀；將裁剪好的網(wǎng)布基材放置于鍍膜設備的真空腔室內(nèi)，再將特定的鍍膜原材料放置在蒸發(fā)源中，進行光學鍍膜，在網(wǎng)布基材的表...

2025-09-10
一種用于改善硅電容深槽底部介質(zhì)層尖角的深槽刻蝕方法

本發(fā)明提供一種用于改善硅電容深槽底部介質(zhì)層尖角的深槽刻蝕方法，包括如下步驟：采用近室溫高密度等離子體刻蝕法對硅襯底進行錐形深槽刻蝕，具體工藝參數(shù)如下：源功率為400?800W，偏置功率為20?40W，蝕刻期間的SF₆/...

2025-09-10
一種高純鈷濺射靶材的制備方法、高純鈷濺射靶材及應用

本發(fā)明涉及濺射靶材技術領域，具體涉及一種高純鈷濺射靶材的制備方法、高純鈷濺射靶材及應用。所述方法包括以下步驟：(1)基體預處理：選擇靶材基體，對基體表面進行加工處理，控制基體表面粗糙度在0.1μm以下；(2)高純鈷沉積：采用化學氣相沉積法將...

2025-09-10
薄壁方管的熱鍍鋅裝置

本發(fā)明提供了一種薄壁方管的熱鍍鋅裝置，鋅鍋內(nèi)分別設置入料組件和旋轉(zhuǎn)輪，入料組件用于限定鋼管的位移軌跡，旋轉(zhuǎn)輪用于帶動鋼管運動，且鋅鍋內(nèi)填設鍍料，撥出組件用于將鋼管由鋅鍋導出，入料組件包括第一入料框，第一入料框上設有用于鋼管導向的第一導向槽，...

2025-09-10
一種寬溫域耐磨自潤滑復合涂層制備工藝

本發(fā)明提供了一種寬溫域耐磨自潤滑復合涂層制備工藝，采用雙陶瓷層結(jié)構(gòu)體系，整體提升涂層與基體、涂層間的匹配性并提升涂層抗氧化及熱循環(huán)性能，減少了涂層使用過程中的剝落；即在金屬基體表面采用超音速噴涂鎳鉻/碳化鉻作為耐磨涂層底層，采用超音速火焰噴...

2025-09-10
一種實時監(jiān)測樣品溫度的壓環(huán)裝置

本實用新型涉及一種實時監(jiān)測樣品溫度的壓環(huán)裝置，包括承載臺，承載臺上端設有用于夾持基片的環(huán)向夾持結(jié)構(gòu)，所述承載臺為中空柱狀結(jié)構(gòu)，內(nèi)部具有上下貫通的空腔，承載臺的內(nèi)部設有用于實時監(jiān)測基片溫度的熱成像攝像頭，所述熱成像攝像頭配置有外接主機，所述熱...

2025-09-10
一種爐鼻子裙邊內(nèi)部吹渣裝置及其使用方法

本發(fā)明公開了一種爐鼻子裙邊內(nèi)部吹渣裝置及其使用方法，包括外接進氣口、裙邊外部的吹渣管、裙邊本體，鋁鍋本體和鋁鍋工作液面；鋁鍋本體為基礎容器，盛裝高溫鋁液，是帶鋼熱浸鍍鋁的核心區(qū)域，呈池狀開口向上；裙邊本體屬于爐鼻子設備的組成部分，位于在鋁鍋...

2025-09-10
一種耐磨損腐蝕的氣動缸用不銹鋼及其制備方法

本發(fā)明涉及不銹鋼氣動缸技術領域，具體公開了一種耐磨損腐蝕的氣動缸用不銹鋼及其制備方法，首先對不銹鋼基體預處理，提升不銹鋼基體表面與涂層間的結(jié)合性能，接著在基體表面沉積防止基體中的鐵擴散的過渡層后，依次沉積增韌的鎳鈷合金層、高硬度的超晶格涂層...

2025-09-10
鍍膜設備及鍍膜方法

本申請涉及一種鍍膜設備及鍍膜方法。鍍膜設備包括真空鍍膜室、工件架、靶組機構(gòu)以及驅(qū)動調(diào)節(jié)機構(gòu)，真空鍍膜室；工件架設置于真空鍍膜室內(nèi)；多個靶組機構(gòu)環(huán)繞工件架設置于真空鍍膜室內(nèi)，靶組機構(gòu)用于向待鍍膜工件的表面濺射鍍膜材料顆粒；驅(qū)動調(diào)節(jié)機構(gòu)設置于靶...

2025-09-10
一種用于電磁抹鋅裝置的冷卻組合管

本發(fā)明公開了一種用于電磁抹鋅裝置的冷卻組合管，包括電磁產(chǎn)生裝置、端部冷卻組合管，外周冷卻組合管；外周冷卻組合管整體呈圓環(huán)形的中空管狀結(jié)構(gòu)；其包含有螺旋纏繞的多個獨立的冷卻分管；冷卻分管改變制冷劑的流動軌跡，產(chǎn)生二次流增加制冷劑的湍流程度，使...

2025-09-10
一種多級孿生靶粉體外循環(huán)連續(xù)輸送鍍膜設備

本發(fā)明涉及粉體鍍膜技術領域，具體涉及一種多級孿生靶粉體外循環(huán)連續(xù)輸送鍍膜設備，包括支撐架、鍍膜裝置、進料裝置、循環(huán)裝置和收集裝置，所述支撐架上安裝有鍍膜裝置，所述鍍膜裝置用于通過孿生等離子對靶實現(xiàn)粉體的薄膜沉積實現(xiàn)對粉體的鍍膜；所述進料裝置...

2025-09-10
一種用于金屬薄膜的智能化高真空鍍膜機

本發(fā)明公開了一種用于金屬薄膜的智能化高真空鍍膜機，應用于金屬薄膜真空鍍膜技術領域，其中殼體一、真空外殼、殼體二和滑移板，殼體一的內(nèi)部設置有蒸發(fā)車，殼體二的內(nèi)部設置有卷繞車，蒸發(fā)車和卷繞車均與滑移板為滑動連接，蒸發(fā)車上設置有蒸發(fā)組件；蒸發(fā)組件...

2025-09-10
由氯硅烷和氨基硅烷反應沉積的低溫含硅膜

一種通過原子層沉積(ALD)或ALD樣工藝沉積含硅和氮的介電膜的方法。該方法包括以下步驟：a)將至少一個襯底提供到反應器中和將反應器加熱至約25℃至約600℃范圍的至少一個溫度，并任選地將反應器保持在約100托或更低的壓力下；b)將形成含硅...

2025-09-10
應用于顯示面板蒸鍍工藝的坩堝

本實用新型公開了一種應用于顯示面板蒸鍍工藝的坩堝，包括外殼、堝體和加熱組件。外殼內(nèi)設置有安裝腔，堝體設置于安裝腔內(nèi)，堝體用于容納蒸鍍材料。加熱組件設置于安裝腔內(nèi)，加熱組件包括發(fā)熱元件，發(fā)熱元件環(huán)繞在堝體的外部，發(fā)熱元件沿堝體的軸線方向往復彎...

2025-09-10
用于在襯底上和基座周圍提供均勻工藝氣體流的擋板

一種襯底處理室包括井、設置在井中的基座以及設置在井中圍繞基座的擋板。井是由底部以及從底部豎直向上延伸的側(cè)壁限定。井包括靠近井的底部的多個排放口?；ǖ鬃亢蜅U部。擋板包括側(cè)壁和在側(cè)壁上的多組開孔。擋板被配置為引導供應到襯底處理室的氣體的...

2025-09-10
基于二維量子隧穿力敏機制的柔性壓力傳感器及制備方法

本發(fā)明公開了一種基于二維量子隧穿力敏機制的柔性壓力傳感器，由頂部電極、中間介電層、底部電極和柔性襯底層組成；所述頂部電極為共形碳納米薄膜，所述中間介電層為六方氮化硼（HBN），所述底部電極為單層石墨烯；所述共形碳納米薄膜由具有微結(jié)構(gòu)的石墨烯...

2025-09-10
用于控制多層級外延工藝中的層間厚度的方法

一種用于基板處理的方法，包括：使一種或多種工藝反應性氣體流入處理腔室的上容積中；使清潔氣體流入該處理腔室的下容積中；測量該處理腔室的該下容積的內(nèi)表面的溫度；以及基于測量的溫度來調(diào)整該處理腔室的該下容積的該內(nèi)表面的溫度。

2025-09-10

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